无标样X射线荧光光谱仪定量分析研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·XRF 技术产生和发展历史 | 第10-12页 |
| ·影响 X 射线荧光光谱技术定量分析精度的因素 | 第12-17页 |
| ·谱线干扰 | 第12-15页 |
| ·环境气体的干扰 | 第15-16页 |
| ·基体的影响 | 第16-17页 |
| ·常用仪器分析定量分析方法 | 第17-20页 |
| ·X 射线光电子能谱法(XPS) | 第17-18页 |
| ·俄歇电子能谱法(AES) | 第18页 |
| ·二次离子质谱法(SIMS) | 第18页 |
| ·能量散射 X 射线光谱法(EDAX) | 第18-19页 |
| ·激光诱导击穿光谱法(LIBS) | 第19页 |
| ·X 射线荧光光谱分析法(XRF) | 第19-20页 |
| ·本课题研究的内容及研究意义 | 第20-21页 |
| 第2章 X 射线荧光光谱分析原理 | 第21-44页 |
| ·X 射线和 X 射线荧光光谱的基本理论 | 第21-34页 |
| ·X 射线和 X 射线光谱 | 第21-25页 |
| ·特征荧光 X 射线 | 第25-32页 |
| ·X 射线的吸收和散射 | 第32-34页 |
| ·波长色散 X 射线荧光光谱仪 | 第34-41页 |
| ·激发系统 | 第35-38页 |
| ·分光系统 | 第38-40页 |
| ·探测系统 | 第40-41页 |
| ·X 射线荧光光谱分析 | 第41-42页 |
| ·X 射线荧光光谱技术的特点 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 X 射线荧光光谱定量分析方法的研究 | 第44-51页 |
| ·背景介绍 | 第44-45页 |
| ·提高定量分析精度的方法 | 第45-50页 |
| ·样品处理 | 第46-47页 |
| ·光谱分析 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 X 射线荧光光谱实验设计 | 第51-64页 |
| ·实验装置 | 第51-53页 |
| ·X 射线管 | 第52页 |
| ·X 射线光路 | 第52-53页 |
| ·SDD 探测器 | 第53页 |
| ·样品及制备方法 | 第53-57页 |
| ·实验样品： | 第53-54页 |
| ·薄膜样品制备 | 第54-57页 |
| ·光谱分析软件设计 | 第57-62页 |
| ·总体设计 | 第58-60页 |
| ·关键技术 | 第60-61页 |
| ·软件界面及功能介绍 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 样品的检测分析 | 第64-73页 |
| ·序言 | 第64页 |
| ·块体样品的检测 | 第64-69页 |
| ·不锈钢的检测 | 第65-66页 |
| ·五角硬币的检测 | 第66-68页 |
| ·CdTe 靶材的检测 | 第68-69页 |
| ·CdTe 薄膜的检测 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第6章 结论 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 附录 | 第81-82页 |
| 详细摘要 | 第82-86页 |
