摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-29页 |
·课题的研究意义 | 第10-11页 |
·SOI技术概述及制备方法 | 第11-17页 |
·SOI技术概述 | 第11-14页 |
·SOI制各方法 | 第14-17页 |
·SOI材料应用研究及市场进展 | 第17-18页 |
·SOI LDMOS的研究与发展 | 第18-20页 |
·CCD概述 | 第20-22页 |
·CCD的发展及现状 | 第20-21页 |
·CCD基本结构及工作原理 | 第21-22页 |
·CCD图像传感器和CMOS图像传感器的比较 | 第22-23页 |
·读取过程的比较 | 第22页 |
·集成性的比较 | 第22-23页 |
·其他性能的一些比较 | 第23页 |
·CCD的性能参数 | 第23-25页 |
·电荷转移效率和转移损失效率 | 第23-24页 |
·工作频率 | 第24-25页 |
·CCD中的光学系统 | 第25-27页 |
·理想光学系统的物像位置公式 | 第25-26页 |
·透镜的成像特性 | 第26-27页 |
·CCD图像传感器的发展中存在的一些问题 | 第27页 |
·本文的主要内容 | 第27-29页 |
第二章 CCD驱动要求 | 第29-48页 |
·SILVACO TCAD简介 | 第29页 |
·CCD基本单元工艺仿真 | 第29-36页 |
·仿真器ATHENA简介 | 第29-30页 |
·CCD工艺流程设计 | 第30-36页 |
·CCD基本单元器件特性仿真 | 第36-44页 |
·仿真器ATLAS简介 | 第36-37页 |
·OPG CCD器件的电学模型 | 第37-38页 |
·OPG CCD的Ⅰ-Ⅴ特性 | 第38-40页 |
·光学特性仿真 | 第40-42页 |
·信号电荷转移仿真 | 第42-44页 |
·阻容网络充放电模型计算 | 第44-46页 |
·栅电容计算 | 第44页 |
·多晶硅栅电极电阻计算 | 第44-46页 |
·时间常数τ的计算 | 第46页 |
·驱动电流估算及对SOI LDMOS驱动能力要求的提出 | 第46-48页 |
第三章 SOI LDMOS理论研究 | 第48-58页 |
·基本结构及工作原理 | 第48-49页 |
·SOI LDMOS基本结构 | 第48-49页 |
·SOI LDMOS工作原理 | 第49页 |
·SOI LDMOS的工作区域 | 第49-50页 |
·普通MOS管的工作区域 | 第49-50页 |
·SOI LDMOS特殊的工作区域 | 第50页 |
·SOI LDMOS的主要参数 | 第50-55页 |
·漏源通/关态击穿电压 | 第50-51页 |
·阈值电压 | 第51页 |
·亚阈值电流 | 第51-52页 |
·通态电阻 | 第52-54页 |
·截止频率 | 第54-55页 |
·SOI LDMOS中的RESURF原理 | 第55-56页 |
·SOI LDMOS功率器件的击穿机理 | 第55-56页 |
·场极板原理 | 第56-58页 |
第四章 SOI LDMOS设计 | 第58-71页 |
·SOI LDMOS器件基本参数的设定及器件模拟 | 第58-61页 |
·P阱掺杂浓度的确定 | 第58-59页 |
·漂移区浓度的确定 | 第59-60页 |
·所设计SOI LDMOS的输出特性 | 第60-61页 |
·SOI LDMOS工艺流程 | 第61-68页 |
·SOI LDMOS工艺模拟 | 第61-66页 |
·工艺仿真结果及讨论 | 第66-68页 |
·SOI LDMOS版图设计 | 第68-71页 |
·版图绘制工具 | 第68页 |
·版图层次定义 | 第68-69页 |
·设计结果 | 第69页 |
·布局布线 | 第69-70页 |
·后仿真结果 | 第70-71页 |
第五章 SOI LDMOS驱动要求 | 第71-79页 |
·开关损耗 | 第71-72页 |
·输入电容 | 第72-74页 |
·开关时间 | 第74页 |
·SOI LDMOS驱动电路设计 | 第74-77页 |
·版图设计与后仿真 | 第77-79页 |
第六章 总结与展望 | 第79-81页 |
·总结 | 第79页 |
·展望 | 第79-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-84页 |
附录 | 第84页 |