| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1 文献综述 | 第12-30页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·几种重要高纯金属杂质分析方法 | 第13-16页 |
| ·电感祸合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES) | 第13-14页 |
| ·电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS) | 第14页 |
| ·石墨炉原子吸收光谱法(GF-AAS) | 第14-15页 |
| ·火花源原子发射光谱法 | 第15页 |
| ·二次离子质谱法(SI-MS)与火花源质谱法(SS-MS) | 第15-16页 |
| ·辉光放电质谱法(GD-MS) | 第16页 |
| ·辉光放电质谱技术概述 | 第16-21页 |
| ·辉光放电的基本原理 | 第16-18页 |
| ·辉光放电质谱仪的基本工作原理 | 第18-19页 |
| ·辉光放电质谱仪的基本结构 | 第19-20页 |
| ·辉光放电质谱仪发展状况 | 第20-21页 |
| ·辉光放电质谱仪的分析测试原理 | 第21页 |
| ·国内外辉光放电质谱技术应用现状 | 第21-24页 |
| ·国外GD-MS的应用现状 | 第21-22页 |
| ·国内GD-MS的应用现状 | 第22-24页 |
| ·选题报告 | 第24-29页 |
| ·选题意义 | 第24-25页 |
| ·高纯铌铋钨的分析测试研究现状 | 第25-28页 |
| ·国内外高纯铌铋钨GD-MS研究现状 | 第28-29页 |
| ·实验方案 | 第29-30页 |
| 2 实验仪器与试剂 | 第30-31页 |
| ·主要仪器设备 | 第30页 |
| ·试剂 | 第30-31页 |
| ·主要试剂 | 第30页 |
| ·标准溶液 | 第30-31页 |
| 3 GD-MS法测定高纯铌铋钨中痕量杂质元素 | 第31-55页 |
| ·GD-MS法测定高纯铌中痕量杂质元素 | 第31-38页 |
| ·高纯铌GD-MS工作参数的优化 | 第31-32页 |
| ·GD-MS同位素和仪器分辨率的选择 | 第32-35页 |
| ·高纯铌的GD-MS测定 | 第35-38页 |
| ·高纯铌GD-MS测定小结 | 第38页 |
| ·GD-MS法测定高纯铋中痕量杂质元素 | 第38-46页 |
| ·高纯铋GD-MS工作参数的优化 | 第38-40页 |
| ·GD-MS同位素和仪器分辨率的选择 | 第40-42页 |
| ·高纯铋的GD-MS测定 | 第42-46页 |
| ·高纯铋GD-MS测试小结 | 第46页 |
| ·GD-MS法测定高纯钨中痕量杂质元素 | 第46-54页 |
| ·高纯钨GD-MS工作参数的优化 | 第46-48页 |
| ·GD-MS同位素和仪器分辨率的选择 | 第48-51页 |
| ·高纯钨的GD-MS测定 | 第51-54页 |
| ·高纯钨GD-MS测定小结 | 第54页 |
| ·GD-MS法测试小结 | 第54-55页 |
| 4 ICP-MS法测定高纯铌铋钨中痕量杂质元素 | 第55-70页 |
| ·ICP-MS工作参数的优化 | 第55-57页 |
| ·ICP-MS同位素选择 | 第57-58页 |
| ·ICP-MS分析测试过程 | 第58-59页 |
| ·ICP-MS测定结果 | 第59-69页 |
| ·高纯铌ICP-MS测定结果 | 第59-63页 |
| ·高纯铋ICP-MS测试结果 | 第63-66页 |
| ·高纯钨ICP-MS测定结果 | 第66-69页 |
| ·ICP-MS测试小结 | 第69-70页 |
| 5 高纯铌铋钨分析测试比较 | 第70-80页 |
| ·高纯铌分析测试比较 | 第70-74页 |
| ·高纯铋分析测试比较 | 第74-76页 |
| ·高纯钨分析测试比较 | 第76-78页 |
| ·分析测试比较小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-96页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第96-97页 |
| 致谢 | 第97页 |