| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·Al_2O_3薄膜的基本特性和应用 | 第9-11页 |
| ·Al_2O_3薄膜的性质 | 第9-10页 |
| ·Al_2O_3薄膜的应用 | 第10-11页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备方法 | 第11-18页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第11-12页 |
| ·真空蒸镀法 | 第12-13页 |
| ·等离子体化学气相沉积 | 第13-14页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第14-15页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-18页 |
| ·钝化层的研究现状 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究内容和行文安排 | 第19-21页 |
| 第二章 磁控溅射工艺对氧化铝薄膜性能的影响 | 第21-54页 |
| ·磁控溅射系统简介及Al_2O_3薄膜表征方法 | 第21-26页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第21-24页 |
| ·射频磁控溅射设备 | 第24-25页 |
| ·Al_2O_3薄膜的性能表征 | 第25-26页 |
| ·Al靶溅射制备Al_2O_3薄膜工艺研究 | 第26-52页 |
| ·薄膜的制备 | 第26页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第26-38页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜沉积速率的影响 | 第27-30页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第30-34页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜折射率的影响 | 第34-35页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜透光性的影响 | 第35-37页 |
| ·O_2流量对Al_2O_3薄膜耐腐蚀性的影响 | 第37-38页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第38-52页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜沉积速率的影响 | 第39-41页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第41-48页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜折射率的影响 | 第48页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜透光性的影响 | 第48-51页 |
| ·溅射功率对Al_2O_3薄膜耐腐蚀性的影响 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 第三章 退火工艺对溅射制备的Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第54-72页 |
| ·实验过程 | 第54-55页 |
| ·结果分析与讨论 | 第55-70页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第55-63页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第55-60页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜折射率的影响 | 第60-61页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜透光性的影响 | 第61-62页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜耐腐蚀性的影响 | 第62-63页 |
| ·退火时间对Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第63-70页 |
| ·退火时间对Al_2O_3薄膜表面形貌的影响 | 第64-68页 |
| ·退火时间对Al_2O_3薄膜折射率的影响 | 第68页 |
| ·退火时间对Al_2O_3薄膜透光性的影响 | 第68-69页 |
| ·退火时间对Al_2O_3薄膜耐腐蚀性的影响 | 第69-70页 |
| ·小结 | 第70-72页 |
| 第四章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |