| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 图片说明 | 第10-12页 |
| 表格说明 | 第12-13页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 目录 | 第14-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-47页 |
| ·课题背景 | 第17-19页 |
| ·硅纳米线制备及应用回顾 | 第19-34页 |
| ·硅纳米线制备 | 第19-27页 |
| ·硅纳米线的应用回顾 | 第27-34页 |
| ·本文研究内容及意义 | 第34-38页 |
| 参考文献 | 第38-47页 |
| 第二章 硅纳米线表/界面缺陷研究 | 第47-65页 |
| ·体硅表面缺陷 | 第47-49页 |
| ·点缺陷 | 第47-48页 |
| ·位错缺陷 | 第48-49页 |
| ·硅纳米线界面缺陷 | 第49-53页 |
| ·高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)表征法 | 第50-51页 |
| ·电子自旋共振谱(ESR)表征法 | 第51-52页 |
| ·拉曼光谱法 | 第52-53页 |
| ·无电化学刻蚀法制备的硅纳米线表/界面缺陷研究 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 第三章 硅纳米线电学特性及Pt/p-SiNWs肖特基结电流传输机制研究及应用 | 第65-93页 |
| ·硅纳米线电学特性 | 第65-71页 |
| ·电离能 | 第65-67页 |
| ·硅纳米线表/界面态 | 第67-70页 |
| ·电子迁移率 | 第70-71页 |
| ·Pt/p-SiNWs肖特基结电流传输机制 | 第71-85页 |
| ·金属/半导体(M/S)肖特基接触 | 第72-74页 |
| ·Pt/p-SiNWs肖特基结制备 | 第74-77页 |
| ·Pt/p-SiNWs肖特基结参数提取 | 第77-81页 |
| ·Pt/p-SiNWs肖特基结电流传输机制分析 | 第81-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-93页 |
| 第四章 镍纳米颗粒修饰硅纳米线磁性研究及应用 | 第93-133页 |
| ·宏观物质的磁性 | 第94-95页 |
| ·磁性纳米粒子的磁性 | 第95-101页 |
| ·尺寸效应 | 第96-98页 |
| ·超顺磁效应 | 第98-99页 |
| ·表面效应 | 第99-101页 |
| ·硅纳米线表面顺磁缺陷 | 第101-103页 |
| ·杂质和缺陷的顺磁性 | 第101-102页 |
| ·硅纳米线缺陷顺磁性 | 第102-103页 |
| ·镍纳米磁性颗粒制备方法回顾 | 第103-110页 |
| ·物理合成法 | 第103-104页 |
| ·化学合成法 | 第104-110页 |
| ·硅纳米线沉积镍纳米颗粒的合成和磁学性质 | 第110-124页 |
| ·Ni/SiNWs磁性复合材料制备 | 第111-112页 |
| ·Ni/SiNWs复合材料表征 | 第112-116页 |
| ·Ni/SiNWs磁性复合材料磁性特征 | 第116-124页 |
| ·本章小结 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-133页 |
| 第五章 硅纳米线热电性能研究及应用 | 第133-161页 |
| ·热电理论回顾 | 第134-137页 |
| ·提高热电材料优值ZT的方法 | 第137-139页 |
| ·重元素的化合物半导体 | 第137页 |
| ·包含缺陷的、热散射较强的合金材料 | 第137-138页 |
| ·复杂晶格结构的材料 | 第138-139页 |
| ·掺杂提高材料优值 | 第139页 |
| ·纳米材料热电性能 | 第139-143页 |
| ·纳米结构/尺寸热电材料的合成 | 第140-141页 |
| ·纳米结构/尺寸材料的热电性能测量方法 | 第141-143页 |
| ·一维纳米热电材料特性 | 第143-144页 |
| ·理论建模 | 第143-144页 |
| ·实验测量 | 第144页 |
| ·硅纳米线热电性能 | 第144-146页 |
| ·核/壳结构硅纳米线阵列热电性能研究及应用 | 第146-154页 |
| ·核/壳结构硅纳米线制备 | 第146-147页 |
| ·核/壳结构硅纳米线性能测试 | 第147-154页 |
| ·本章小结 | 第154-156页 |
| 参考文献 | 第156-161页 |
| 第六章 总结和展望 | 第161-165页 |
| 作者在攻读博士学位期间的主要工作 | 第165-167页 |
| 致谢 | 第167页 |