| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| ·硅烷处理的原理 | 第14-17页 |
| ·硅烷偶联剂的分类 | 第14-15页 |
| ·硅烷膜的成膜机理 | 第15-16页 |
| ·硅烷膜的防护机理 | 第16-17页 |
| ·铝合金表面硅烷处理的工艺方法 | 第17-19页 |
| ·浸渍法 | 第17-18页 |
| ·电沉积法 | 第18-19页 |
| ·硅烷处理技术的改性研究 | 第19-20页 |
| ·稀土金属盐改性 | 第19页 |
| ·有机缓蚀剂掺杂改性 | 第19-20页 |
| ·纳米颗粒改性 | 第20页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第20-22页 |
| 第二章 试验方法和条件 | 第22-28页 |
| ·试验材料 | 第22页 |
| ·试验装置 | 第22页 |
| ·试验流程 | 第22-23页 |
| ·性能分析及研究 | 第23-28页 |
| ·硫酸铜点滴试验 | 第24页 |
| ·表面形貌 | 第24页 |
| ·中性盐雾腐蚀试验 | 第24-25页 |
| ·浸泡试验 | 第25-26页 |
| ·电化学性能测试分析 | 第26-27页 |
| ·傅里叶反射吸收红外光谱分析（FTIR） | 第27-28页 |
| 第三章 铝合金表面硅烷膜的制备工艺 | 第28-39页 |
| ·铝合金表面硅烷膜的制备工艺 | 第28-34页 |
| ·正交试验设计 | 第28页 |
| ·水解参数对硅烷膜的影响 | 第28-32页 |
| ·成膜参数对硅烷膜的影响 | 第32-34页 |
| ·铝合金表面硅烷膜的最佳工艺参数 | 第34-38页 |
| ·各因素对硅烷膜的影响 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 铝合金表面硅烷稀土复合膜的制备工艺 | 第39-61页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·铝合金表面硅烷稀土复合膜的基础制备工艺 | 第39-47页 |
| ·盐雾试验 | 第40-41页 |
| ·浸泡试验 | 第41-45页 |
| ·硫酸铜点滴试验 | 第45-46页 |
| ·表面形貌 | 第46-47页 |
| ·铝合金表面硅烷稀土复合膜的最佳制备工艺 | 第47-60页 |
| ·浸涂时间对硅烷稀土复合膜性能的影响 | 第48-54页 |
| ·固化温度对硅烷稀土复合膜性能的影响 | 第54-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 铝合金表面硅烷膜及硅烷稀土复合膜的表面形貌及耐腐蚀性能 | 第61-77页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·硫酸铜点滴试验 | 第61-62页 |
| ·盐雾试验 | 第62-64页 |
| ·浸泡试验 | 第64-67页 |
| ·NaCl 溶液浸泡试验 | 第64-65页 |
| ·酸性溶液浸泡试验 | 第65页 |
| ·碱性溶液浸泡试验 | 第65-67页 |
| ·表面形貌及成分 | 第67-76页 |
| ·表面形貌 | 第67-75页 |
| ·红外光谱分析 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 铝合金表面硅烷膜及硅烷稀土复合膜的电化学腐蚀性能 | 第77-90页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·塔菲尔曲线 | 第77-82页 |
| ·涂层在 1mol/LNaCl 溶液中的塔菲尔极化曲线 | 第78-79页 |
| ·涂层在 1mol/LHCl 溶液中的塔菲尔极化曲线 | 第79-80页 |
| ·涂层在 1mol/LNaOH 溶液中的塔菲尔曲线 | 第80-82页 |
| ·交流阻抗（EIS） | 第82-88页 |
| ·涂层在 1mol/LNaCl 溶液中的交流阻抗谱 | 第83-84页 |
| ·涂层在 1mol/LHCl 溶液中的交流阻抗谱 | 第84-86页 |
| ·涂层在 1mol/LNaOH 溶液中的交流阻抗谱 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-90页 |
| 第七章 结论 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-97页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文清单 | 第97-98页 |
