| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-21页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·光电子技术、集成光学与信息材料 | 第12-14页 |
| ·非线性光学材料 | 第14-18页 |
| ·本文的研究目的、意义和文章结构 | 第18-21页 |
| 2 KTN的研究进展 | 第21-36页 |
| ·铁电材料 | 第21-25页 |
| ·铁电薄膜及集成铁电学研究进展 | 第25-29页 |
| ·钽铌酸钾的晶体结构 | 第29-31页 |
| ·KTN材料制备研究进展 | 第31-34页 |
| ·KTN光电性能的研究进展 | 第34-36页 |
| 3 KTN纳米粉体的水热法合成研究 | 第36-57页 |
| ·研究背景 | 第36页 |
| ·水热合成技术概述 | 第36-39页 |
| ·KTN粉体的水热法制备 | 第39-42页 |
| ·KTN粉体的溶剂热法制备 | 第42-45页 |
| ·混合水热法制备KTN粉体 | 第45-47页 |
| ·水热法和溶剂热法物理机理分析 | 第47-49页 |
| ·水热合成的热力学模型与水热反应设计 | 第49-53页 |
| ·理论设计结果与分析 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 4 脉冲激光沉积制备KTN薄膜的工艺研究 | 第57-68页 |
| ·脉冲激光沉积制备KTN薄膜概述 | 第57-60页 |
| ·薄膜材料的一般表征技术 | 第60-61页 |
| ·KTN薄膜的脉冲激光沉积制备 | 第61-63页 |
| ·KTN薄膜的表征 | 第63-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 5 KTN薄膜非线性光学性能研究 | 第68-79页 |
| ·研究背景 | 第68页 |
| ·KTN薄膜线性光学性质的研究 | 第68-72页 |
| ·KTN薄膜的三阶非线性光学性能 | 第72-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 6 KTa_(0.65)Nb_(0.35)O_3薄膜电子结构及光学性质的理论研究 | 第79-90页 |
| ·密度泛函理论 | 第79-82页 |
| ·CASTEP程序概述 | 第82-84页 |
| ·铁电材料的第一性原理计算 | 第84-85页 |
| ·KTN薄膜的电子结构及光学性质计算 | 第85-89页 |
| ·小结 | 第89-90页 |
| 7 主要结论和展望 | 第90-92页 |
| ·本文主要结论 | 第90-91页 |
| ·今后工作展望 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-106页 |
| 附录1 水热合成的热力学模型 | 第106-108页 |
| 附录2 Z扫描方法测试光学非线性系数的理论基础 | 第108-111页 |
| 附录3 攻读博士学位期间发表的论文 | 第111-112页 |