| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·纳米材料的研究概况 | 第10-11页 |
| ·基本概念及发展状况 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的应用 | 第11页 |
| ·薄膜材料综述 | 第11-13页 |
| ·铁氧体薄膜材料的应用 | 第11-12页 |
| ·薄膜制备方法简介 | 第12-13页 |
| ·尖晶石铁氧体基本特性 | 第13-19页 |
| ·尖晶石晶体结构与阳离子分布 | 第13-16页 |
| ·晶体磁结构及磁性来源 | 第16-18页 |
| ·磁化曲线与磁滞回线 | 第18-19页 |
| ·论文选题背景 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 测试仪器与原理 | 第22-34页 |
| ·X射线衍射 | 第22-23页 |
| ·振动样品磁强计 | 第23-25页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| ·原子吸收光谱法 | 第26-27页 |
| ·阻抗分析仪和矢量网络分析仪 | 第27-28页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第28-29页 |
| ·穆斯堡尔谱仪(MS)和内转换电子穆斯堡尔谱 | 第29-32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 第三章 实验方法 | 第34-44页 |
| ·旋转喷涂法的简单介绍 | 第34-36页 |
| ·旋转喷涂法的起源 | 第34页 |
| ·旋转喷涂法的优点 | 第34-35页 |
| ·旋转喷涂法实验原理 | 第35-36页 |
| ·旋转喷涂法制备铁氧体薄膜的实验装置及条件 | 第36-41页 |
| ·旋转喷涂法制备铁氧体薄膜的实验装置 | 第36-37页 |
| ·旋转喷涂法制备铁氧体薄膜的实验条件 | 第37-39页 |
| ·旋转喷涂法制备铁氧体薄膜的实验步骤 | 第39-41页 |
| ·化学镀法制备铁氧体薄膜及粉末的简单介绍 | 第41-42页 |
| ·化学镀制备铁氧体薄膜及粉末的实验装置 | 第41-42页 |
| ·化学镀制备铁氧体的实验步骤 | 第42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第44-56页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第44-52页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的实验条件 | 第44-46页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的结构与形貌 | 第46-48页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的宏观磁性 | 第48-49页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的微观磁性 | 第49-51页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的高频动态磁性 | 第51-52页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_(0.21)Co_(0.24)Fe_(2.55)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第52-54页 |
| ·旋转喷涂法制备Ni_(0.21)Co_(0.24)Fe_(2.55)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第53-54页 |
| ·旋转喷涂法制备的Ni_(0.21)Co_(0.24)Fe_(2.55)O_4铁氧体薄膜的高频磁性 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第五章 化学镀法制备铁氧体颗粒及薄膜的结构与磁性 | 第56-70页 |
| ·化学镀法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体的结构与磁性 | 第56-62页 |
| ·化学镀法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体颗粒的结构与磁性 | 第56-61页 |
| ·化学镀法制备Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第61-62页 |
| ·化学镀法制备Co_xFe_(3-x)O_4铁氧体的结构与磁性 | 第62-65页 |
| ·化学镀法制备Co_xFe_(3-x)O_4铁氧体颗粒的结构与磁性 | 第62-64页 |
| ·化学镀法制备Co_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的结构与磁性 | 第64-65页 |
| ·化学镀法制备Fe_3O_4的结构与磁性 | 第65-68页 |
| ·化学镀法制备Fe_3O_4颗粒的结构与磁性 | 第65-67页 |
| ·化学镀法制备Fe_3O_4薄膜的结构与磁性 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
