光子晶体中的负折射现象与磁光多层膜隔离器研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| ·光子晶体概念 | 第11-12页 |
| ·光子晶体的特性 | 第12-14页 |
| ·光子晶体中的负折射现象 | 第14-21页 |
| ·负折射率材料及其特性 | 第14-18页 |
| ·光子晶体中的负折射 | 第18-21页 |
| ·磁光光子晶体 | 第21-27页 |
| ·磁光效应和磁光材料 | 第21-24页 |
| ·磁光多层膜光子晶体用于设计光隔离器 | 第24-27页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第27-34页 |
| 第二章 光子晶体的计算方法 | 第34-51页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·一维传输矩阵法 | 第34-36页 |
| ·平面波展开法 | 第36-40页 |
| ·时域有限差分法 | 第40-51页 |
| 第三章 二维蜂窝格子光子晶体的远场成像特性 | 第51-66页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·光子晶体中的负折射 | 第51-57页 |
| ·等频面方法 | 第51-53页 |
| ·光子晶体中的负折射 | 第53-57页 |
| ·二维蜂窝格子光子晶体负折射成像特性 | 第57-59页 |
| ·成像质量的分析和改进 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-66页 |
| 第四章 缺陷对光子晶体中负折射成像的影响 | 第66-80页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·缺陷对于远场负折射成像的影响 | 第66-74页 |
| ·波导型缺陷的影响 | 第67-71页 |
| ·界面附近缺陷的影响 | 第71-73页 |
| ·三角格子光子晶体中缺陷对负折射成像的影响 | 第73-74页 |
| ·缺陷对于近场负折射的影响 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-80页 |
| 第五章 磁光多层膜简介和算法 | 第80-94页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·磁光多层膜隔离器 | 第80-81页 |
| ·一维各项异性传输矩阵法 | 第81-86页 |
| ·正入射时的传输矩阵法 | 第81-84页 |
| ·斜入射时的传输矩阵法 | 第84-86页 |
| ·二维各向异性实空间传输矩阵法 | 第86-91页 |
| ·传输矩阵的获得 | 第86-89页 |
| ·各向异性的传输矩阵法 | 第89-90页 |
| ·用多重散射法获得透射和反射系数 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-94页 |
| 第六章 磁光多层膜隔离器的结构设计和优化 | 第94-115页 |
| ·引言 | 第94页 |
| ·多缺陷结构的磁光多层膜隔离器 | 第94-97页 |
| ·磁光多层膜隔离器工作稳定性研究 | 第97-101页 |
| ·结构及响应谱 | 第98页 |
| ·入射角和薄膜厚度的影响 | 第98-101页 |
| ·介电常数的误差对于单缺陷磁光多层膜性能的影响 | 第101-104页 |
| ·介电常数误差的影响 | 第101-103页 |
| ·讨论 | 第103-104页 |
| ·高宽容性的多缺陷磁光多层膜结构 | 第104-109页 |
| ·利用缺陷耦合设计磁光多层膜结构 | 第104-106页 |
| ·宽容性分析 | 第106-109页 |
| ·磁光多层膜的实验制备 | 第109-111页 |
| ·本章小结 | 第111-115页 |
| 第七章 总结与展望 | 第115-118页 |
| ·总结 | 第115-116页 |
| ·展望 | 第116-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 攻读博士期间发表的论文目录 | 第119页 |
