摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
插图索引 | 第10-13页 |
附表索引 | 第13-14页 |
第1章 前言 | 第14-37页 |
·磁电阻和各种磁电阻效应 | 第14-17页 |
·超大磁电阻效应(CMR,Colossal Magnetoresistance) | 第17-18页 |
·LaMnO_3及掺杂化合物的晶体结构和电子结构 | 第18-22页 |
·LaMnO_3及掺杂化合物的晶体结构 | 第18-19页 |
·LaMnO_3及掺杂化合物的电子结构 | 第19-22页 |
·几种典型CMR掺杂锰氧化合物的电、磁性能 | 第22-24页 |
·与CMR掺杂锰氧化合物相关的几种强关联现象 | 第24-28页 |
·双交换作用(DE,Double Exchange) | 第24-26页 |
·自旋(磁)有序(SO,Spin Order) | 第26页 |
·电荷有序(CO,Charge Ordering) | 第26-27页 |
·轨道有序(OO,Orbital Ordering) | 第27-28页 |
·CMR锰氧化合物的一般输运性质 | 第28-29页 |
·顺磁温区的输运性质 | 第28-29页 |
·铁磁温区的输运性质 | 第29页 |
·CMR锰氧化物中的电子相分离(PS,Phase Separation) | 第29-31页 |
·CMR锰氧化物自旋极化的检测 | 第31-36页 |
·自旋分辨光电子谱 | 第31页 |
·铁磁—超导点接触 | 第31-34页 |
·磁性隧道结(MTJS) | 第34-36页 |
·研究思路和论文结构 | 第36-37页 |
第2章 薄膜的制备和表征方法 | 第37-45页 |
·脉冲激光沉积基本原理 | 第37-39页 |
·磁控溅射沉积基本原理 | 第39-41页 |
·薄膜的常规分析方法 | 第41-45页 |
·薄膜厚度的测量 | 第41页 |
·薄膜的相结构分析 | 第41-42页 |
·薄膜的表面形貌分析 | 第42-43页 |
·薄膜的微观结构分析 | 第43页 |
·薄膜的成分分析 | 第43-44页 |
·薄膜的电磁性质测量 | 第44-45页 |
第3章 A_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3(A=Pr,Nd)块材的电、磁性能 | 第45-67页 |
·引言 | 第45-46页 |
·Pr_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3块材样品的制备和电、磁性能 | 第46-58页 |
·Pr_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3样品的制备、成份和含氧量测试 | 第46-48页 |
·Pr_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3块材的X射线衍射数据 | 第48-50页 |
·Pr_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3块材的电、磁性能和CMR效应 | 第50-58页 |
·Nd_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3多晶块材样品的制备和电、磁性能 | 第58-66页 |
·样品的制备、成份、含氧量测试和X射线衍射数据 | 第58-60页 |
·NLSMO多晶块材的电、磁性能和CMR效应 | 第60-66页 |
·小结 | 第66-67页 |
第4章 A_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3(A=Pr、Nd)外延薄膜的制备及其电、磁性能 | 第67-92页 |
·引言 | 第67-68页 |
·Pr_(0.5-x)La_xSr_(0.5)MnO_3薄膜的制备及其电、磁性能 | 第68-83页 |
·Pr_(0.4)La_(0.1)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的制备和结构特征 | 第68-78页 |
·Pr_(0.4)La_(0.1)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的电磁性能 | 第78-83页 |
·Nd_(0.35)La_(0.15)Sr_(0.5)MnO_3的制备及其电、磁性能 | 第83-90页 |
·Nd_(0.35)La_(0.15)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的制备和结构特征 | 第83-87页 |
·Nd_(0.35)La_(0.15)Sr_(0.5)MnO_3薄膜的电、磁性能 | 第87-90页 |
·小结 | 第90-92页 |
总结和展望 | 第92-106页 |
总结 | 第92-93页 |
展望 | 第93-106页 |
附录A 攻读学位期间所发表学术论文目录 | 第106-107页 |
致谢 | 第107页 |