摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
·引言 | 第9-10页 |
·半导体光催化机理 | 第10-11页 |
·半导体光催化剂的改善方法 | 第11-16页 |
·表面光敏化 | 第12页 |
·贵金属修饰 | 第12-13页 |
·金属离子掺杂 | 第13-14页 |
·阴离子掺杂 | 第14页 |
·半导体复合 | 第14-15页 |
·纳米光催化剂 | 第15-16页 |
·新型光催化剂的研究进展 | 第16-21页 |
·结构简单的窄带光催化剂 | 第16页 |
·钙钛矿型复合氧化物(ABO_3) | 第16-17页 |
·钒副族(VB) 复合氧化物 | 第17-18页 |
·铋系光催化剂 | 第18-21页 |
·氧化铋光催化剂 | 第18-19页 |
·铋的金属复合光催化剂 | 第19-20页 |
·铋的非金属复合光催化剂 | 第20-21页 |
·半导体光催化技术的应用现状 | 第21-22页 |
·本文研究的主要内容和意义 | 第22-23页 |
第二章 空心橄榄状的BiVO_4和n-p 核壳结构的BiVO_4@Bi_2O_3微米球的可控制备和增强的可见光催化活性研究 | 第23-37页 |
·引言 | 第23-25页 |
·实验内容 | 第25-27页 |
·实验仪器和试剂 | 第25-26页 |
·仪器 | 第25-26页 |
·实验试剂 | 第26页 |
·实验步骤 | 第26-27页 |
·中空的橄榄状BiVO_4的合成 | 第26-27页 |
·核壳结构的BiVO_4@Bi_2O_3的合成 | 第27页 |
·光催化实验 | 第27页 |
·结果和讨论 | 第27-36页 |
·粉末X-射线衍射分析 | 第27-28页 |
·场发射扫描电镜分析 | 第28-29页 |
·EDX 分析 | 第29页 |
·产物形貌的影响因素分析 | 第29-30页 |
·中空橄榄状BiVO_4颗粒的形成机制 | 第30-32页 |
·能带结构的研究 | 第32-33页 |
·光催化性能及机理研究 | 第33-36页 |
·光催化性能研究 | 第33-34页 |
·光催化机理研究 | 第34-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第三章 Bi_2S_3/BiVO_4复合物光催化剂的可控制备和光催化性能研究 | 第37-47页 |
·引言 | 第37-38页 |
·实验内容 | 第38-40页 |
·实验仪器和试剂 | 第38-39页 |
·仪器 | 第38页 |
·实验试剂 | 第38-39页 |
·实验步骤 | 第39-40页 |
·BiVO_4的合成 | 第39页 |
·Bi_2S_3/BiVO_4复合物光催化剂的合成 | 第39页 |
·光催化实验 | 第39-40页 |
·结果与讨论 | 第40-46页 |
·粉末X-射线衍射分析 | 第40-41页 |
·场发射扫描电镜分析 | 第41-42页 |
·EDX 分析 | 第42-43页 |
·紫外-可见漫反射谱分析 | 第43页 |
·荧光光谱分析 | 第43-44页 |
·光催化性能及催化机理研究 | 第44-46页 |
·光催化性能的研究 | 第44-45页 |
·光催化机理的研究 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第四章 Bi_2WO_6/CNTs 复合材料的液相控制合成及光催化性质研究 | 第47-55页 |
·引言 | 第47-49页 |
·实验部分 | 第49-51页 |
·实验仪器及试剂 | 第49-50页 |
·仪器 | 第49页 |
·试剂 | 第49-50页 |
·实验步骤 | 第50-51页 |
·MWCNTs 的制备 | 第50页 |
·MWCNTs 的纯化 | 第50页 |
·MWCNTs 的羧基化 | 第50页 |
·Bi_2WO_6/CNTs 的制备 | 第50页 |
·Bi_2WO_6/CNTs 光催化性质研究 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-53页 |
·粉末X-射线衍射分析 | 第51页 |
·场发射扫描电镜图分析 | 第51-52页 |
·反应物浓度对产物合成的影响分析 | 第52页 |
·光催化性能研究 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
结论 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75页 |