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铋基复合半导体的液相可控制备及光催化性质研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-23页
   ·引言第9-10页
   ·半导体光催化机理第10-11页
   ·半导体光催化剂的改善方法第11-16页
     ·表面光敏化第12页
     ·贵金属修饰第12-13页
     ·金属离子掺杂第13-14页
     ·阴离子掺杂第14页
     ·半导体复合第14-15页
     ·纳米光催化剂第15-16页
   ·新型光催化剂的研究进展第16-21页
     ·结构简单的窄带光催化剂第16页
     ·钙钛矿型复合氧化物(ABO_3)第16-17页
     ·钒副族(VB) 复合氧化物第17-18页
     ·铋系光催化剂第18-21页
       ·氧化铋光催化剂第18-19页
       ·铋的金属复合光催化剂第19-20页
       ·铋的非金属复合光催化剂第20-21页
   ·半导体光催化技术的应用现状第21-22页
   ·本文研究的主要内容和意义第22-23页
第二章 空心橄榄状的BiVO_4和n-p 核壳结构的BiVO_4@Bi_2O_3微米球的可控制备和增强的可见光催化活性研究第23-37页
   ·引言第23-25页
   ·实验内容第25-27页
     ·实验仪器和试剂第25-26页
       ·仪器第25-26页
       ·实验试剂第26页
     ·实验步骤第26-27页
       ·中空的橄榄状BiVO_4的合成第26-27页
       ·核壳结构的BiVO_4@Bi_2O_3的合成第27页
       ·光催化实验第27页
   ·结果和讨论第27-36页
     ·粉末X-射线衍射分析第27-28页
     ·场发射扫描电镜分析第28-29页
     ·EDX 分析第29页
     ·产物形貌的影响因素分析第29-30页
     ·中空橄榄状BiVO_4颗粒的形成机制第30-32页
     ·能带结构的研究第32-33页
     ·光催化性能及机理研究第33-36页
       ·光催化性能研究第33-34页
       ·光催化机理研究第34-36页
   ·本章小结第36-37页
第三章 Bi_2S_3/BiVO_4复合物光催化剂的可控制备和光催化性能研究第37-47页
   ·引言第37-38页
   ·实验内容第38-40页
     ·实验仪器和试剂第38-39页
       ·仪器第38页
       ·实验试剂第38-39页
     ·实验步骤第39-40页
       ·BiVO_4的合成第39页
       ·Bi_2S_3/BiVO_4复合物光催化剂的合成第39页
       ·光催化实验第39-40页
   ·结果与讨论第40-46页
     ·粉末X-射线衍射分析第40-41页
     ·场发射扫描电镜分析第41-42页
     ·EDX 分析第42-43页
     ·紫外-可见漫反射谱分析第43页
     ·荧光光谱分析第43-44页
     ·光催化性能及催化机理研究第44-46页
       ·光催化性能的研究第44-45页
       ·光催化机理的研究第45-46页
   ·本章小结第46-47页
第四章 Bi_2WO_6/CNTs 复合材料的液相控制合成及光催化性质研究第47-55页
   ·引言第47-49页
   ·实验部分第49-51页
     ·实验仪器及试剂第49-50页
       ·仪器第49页
       ·试剂第49-50页
     ·实验步骤第50-51页
       ·MWCNTs 的制备第50页
       ·MWCNTs 的纯化第50页
       ·MWCNTs 的羧基化第50页
       ·Bi_2WO_6/CNTs 的制备第50页
       ·Bi_2WO_6/CNTs 光催化性质研究第50-51页
   ·结果与讨论第51-53页
     ·粉末X-射线衍射分析第51页
     ·场发射扫描电镜图分析第51-52页
     ·反应物浓度对产物合成的影响分析第52页
     ·光催化性能研究第52-53页
   ·本章小结第53-55页
结论第55-57页
参考文献第57-73页
致谢第73-75页
攻读学位期间发表的学术论文目录第75页

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