等离子热喷涂钼及其合金工艺研究
| 第一章 绪论 | 第1-22页 |
| ·热喷涂概况及发展 | 第7-13页 |
| ·热喷涂技术简述 | 第7-9页 |
| ·热喷涂的主要特点 | 第9-10页 |
| ·涂层的形成 | 第10-12页 |
| ·涂层与基体的结合机制 | 第12-13页 |
| ·热喷涂技术与其他表面技术的比较 | 第13页 |
| ·等离子喷涂特点 | 第13-16页 |
| ·等离子弧的特点 | 第13-14页 |
| ·等离子弧喷涂原理 | 第14-15页 |
| ·等离子弧喷涂的主要特点 | 第15-16页 |
| ·等离子弧喷涂与几种热喷涂技术比较 | 第16页 |
| ·钼的性能及热喷涂中的应用 | 第16-20页 |
| ·钼的物理性能及开采消费状况 | 第16-17页 |
| ·钼在热喷涂中的应用 | 第17-18页 |
| ·等离子喷涂钼的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本文研究的内容及目的 | 第20-22页 |
| ·目的 | 第20页 |
| ·内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方法与设备 | 第22-31页 |
| ·试验试样的制备 | 第22-23页 |
| ·等离子喷涂的工艺流程 | 第23-25页 |
| ·喷涂粉末的选择 | 第25页 |
| ·涂层的性能检测方法 | 第25-29页 |
| ·外观评价 | 第25-26页 |
| ·金相观察 | 第26页 |
| ·涂层结合强度的测定 | 第26-28页 |
| ·涂层沉积率的测定 | 第28页 |
| ·对涂层进行x衍射试验 | 第28-29页 |
| ·等离子喷涂设备 | 第29-31页 |
| 第三章 试验结果与分析 | 第31-47页 |
| ·工作气体流量对等离子喷涂钼粉涂层性能的影响 | 第31-33页 |
| ·工作气体流量对涂层沉积率的影响 | 第31-32页 |
| ·不同气体流量下的涂层显微照片 | 第32-33页 |
| ·喷涂功率对等离子喷涂钼粉涂层性能的影响 | 第33-39页 |
| ·等离子喷涂功率改变对涂层沉积率的影响 | 第33-34页 |
| ·等离子喷涂功率改变对涂层显微硬度的影响 | 第34-35页 |
| ·等离子喷涂功率改变对涂层结合强度的影响 | 第35-38页 |
| ·不同功率下等离子喷涂钼粉涂层显微照片 | 第38-39页 |
| ·送粉量的改变对涂层性能的影响 | 第39-41页 |
| ·送粉量的改变对涂层显微硬度影响 | 第39-40页 |
| ·送粉量的改变对涂层的沉积率影响 | 第40-41页 |
| ·喷涂功率对等离子喷涂钼合金涂层性能的影响 | 第41-44页 |
| ·喷涂功率改变对钼合金涂层结合强度的影响 | 第41-43页 |
| ·电流改变对涂层显微硬度的影响 | 第43页 |
| ·等离子喷涂钼合金粉末显微照片 | 第43-44页 |
| ·等离子喷涂钼合金送粉量的改变对涂层性能的影响 | 第44-47页 |
| ·送粉量的改变对涂层显微硬度影响 | 第45页 |
| ·送粉量的改变对涂层的沉积率影响 | 第45-47页 |
| 第四章 涂层分析 | 第47-54页 |
| ·利用x射线衍射对涂层中钼氧化量进行分析 | 第47-50页 |
| ·利用x衍射对不同喷涂功率下钼合金涂层分析 | 第50-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-55页 |
| 第六章 问题与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录 | 第61页 |