氮气放电在氮掺杂及氮化物合成中的应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 序言 | 第10-14页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 氮离子注入系统 | 第14-26页 |
| ·非平衡状态下制备材料中的离子技术 | 第15-18页 |
| ·氮离子注入系统的整体设计与结构 | 第18-20页 |
| ·空心阴极放电氮离子束源装置 | 第20-21页 |
| ·离子束的表征—飞行时间质谱 | 第21-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 氮离子束源的特性分析 | 第26-38页 |
| ·氮离子束源研究进展 | 第26-30页 |
| ·放电条件对于氮气解离的影响 | 第30-34页 |
| ·混合气体对于氮气解离的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 离子注入方法制备掺氮氧化钛 | 第38-62页 |
| ·纳米 TiO_2光催化材料概述 | 第38-39页 |
| ·纳米 TiO_2光催化剂的优点及其应用领域 | 第38页 |
| ·目前纳米氧化钛光催化材料的发展近况及存在的问题 | 第38-39页 |
| ·关于掺氮氧化钛的光吸收和光催化机理的讨论 | 第39-41页 |
| ·光催化作用机理 | 第39-40页 |
| ·掺氮 TiO_2光催化材料的研究现状 | 第40-41页 |
| ·掺氮氧化钛的制备 | 第41-47页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)方法 | 第41-44页 |
| ·磁控溅射方法 | 第44-47页 |
| ·氮离子注入 | 第47页 |
| ·掺氮氧化钛的特性分析 | 第47-57页 |
| ·脉冲激光沉积的TiO_2膜的氮掺杂结果 | 第47-53页 |
| ·AFM | 第48页 |
| ·掺氮 PLD氧化钛的结构 | 第48-49页 |
| ·XPS | 第49-51页 |
| ·UV-VIS吸收谱 | 第51-52页 |
| ·光催化反应 | 第52-53页 |
| ·磁控溅射 TiO_2膜的氮掺杂 | 第53-57页 |
| ·AFM | 第53-55页 |
| ·XPS | 第55-56页 |
| ·光催化反应 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第五章 快脉冲氮气放电沉积纳米碳氮薄膜 | 第62-76页 |
| ·碳氮薄膜—寄予厚望的场发射材料 | 第62-63页 |
| ·快脉冲氮气放电沉积碳氮薄膜 | 第63-67页 |
| ·碳氮薄膜的形貌与结构 | 第67-72页 |
| ·结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第六章 快脉冲放电沉积碳氮薄膜的电学性能 | 第76-85页 |
| ·碳氮薄膜的电学性能 | 第76-79页 |
| ·碳氮薄膜的场发射特性 | 第79-82页 |
| ·结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-85页 |
| 第七章 工作总结 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读博士期间发表的文章 | 第88-89页 |
