摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
前言 | 第10-12页 |
第一章 文献综述 | 第12-31页 |
·聚合物共混体系 | 第12-15页 |
·聚合物共混物的发展 | 第12-13页 |
·晶格模型Flory-Huggins理论 | 第13-15页 |
·聚合物共混物的相容性和形态结构 | 第15-19页 |
·聚合物的高临界和低临界相容温度 | 第15-16页 |
·二元体系的稳定条件 | 第16-17页 |
·相分离机理 | 第17-18页 |
·形态结构的基本类型 | 第18-19页 |
·相容性对形态结构的影响 | 第19页 |
·增容剂的增容作用和界面行为 | 第19-22页 |
·增容剂的分类 | 第20页 |
·反应型增容 | 第20-21页 |
·增容剂在共混物中的分布 | 第21-22页 |
·纯嵌段增容剂研究现状 | 第22-24页 |
·嵌段聚合物的发展 | 第22页 |
·嵌段共聚物/均聚物体系(二元共混体系) | 第22-23页 |
·嵌段共聚物/两种均聚物体系(三元共混体系) | 第23页 |
·纯嵌段增容剂增容的相形态的研究 | 第23-24页 |
·无规共聚物增容剂的研究现状 | 第24-25页 |
·PS/PMMA体系的研究现状 | 第25-26页 |
·RAFT活性自由基聚合 | 第26-28页 |
·活性自由基聚合 | 第26页 |
·RAFT活性自由基聚合 | 第26-28页 |
·(细)乳液聚合 | 第28页 |
·RAFT细乳液聚合 | 第28-30页 |
·课题的提出及实验思路 | 第30-31页 |
第二章 实验部分 | 第31-40页 |
·原料来源及精制 | 第31-33页 |
·原料来源 | 第31-32页 |
·原料精制 | 第32-33页 |
·RAFT试剂的制备 | 第33-36页 |
·CPDB的合成 | 第33-34页 |
·PEPDTA的合成 | 第34-36页 |
·细乳液聚合 | 第36-37页 |
·共混操作 | 第37-38页 |
·聚合物的提纯 | 第37页 |
·旋转涂膜 | 第37页 |
·熔融共混 | 第37页 |
·退火过程 | 第37-38页 |
·分析表征 | 第38-40页 |
·聚合转化率 | 第38页 |
·聚合物的分子量 | 第38页 |
·所用PS和PMMA | 第38-39页 |
·膜厚测试 | 第39页 |
·透射电镜 | 第39-40页 |
第三章 增容剂的合成与表征 | 第40-51页 |
·无规聚合物的合成和表征 | 第40-44页 |
·低分子量无规共聚物的合成 | 第40-42页 |
·高分子量无规共聚物的合成 | 第42-44页 |
·A-C复合嵌段聚合物的合成与表征 | 第44-48页 |
·A-B嵌段聚合物的合成与表征 | 第48-51页 |
第四章 增容剂的结构对PMMA/PS共混体系相形态的影响 | 第51-72页 |
·PMMA/PS/相容剂三元共混体系的相形态 | 第51-66页 |
·共混体系PS/PMMA=3/7 | 第52-53页 |
·共混体系PS/PMMA/410=29/68/3 | 第53-54页 |
·共混体系PS/PMMA/410=24/56/20 | 第54-55页 |
·共混体系PS/PMMA/629=29.7/69.2/1.04 | 第55-56页 |
·共混体系PS/PMMA/629=27.6/64.4/8 | 第56-58页 |
·共混体系PS/PMMA/1019=29/68/3 | 第58-59页 |
·共混体系PS/PMMA=7/3 | 第59-60页 |
·共混体系PS/PMMA/410=68/29/3 | 第60-61页 |
·共混体系PS/PMMA/410=56/24/20 | 第61-62页 |
·共混体系PS/PMMA/629=69.2/29.7/1.04 | 第62-63页 |
·共混体系PS/PMMA/304=68/29/3 | 第63页 |
·共混体系PS/PMMA/323=68.8/29.5/1.66 | 第63-64页 |
·共混体系PS/PMMA/1019=68/29/3 | 第64-65页 |
·共混体系PS/PMMA/422b_5=68/29/3 | 第65-66页 |
·三元共混体系在薄膜中相形态 | 第66-72页 |
·无规共聚物增容的相形态 | 第66-68页 |
·复合嵌段共聚物增容 | 第68-72页 |
第五章 结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
附录 | 第80页 |