铜镍合金为衬底化学气相沉积法制备石墨烯研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| ·石墨烯的性质 | 第11-14页 |
| ·电学性质 | 第12-13页 |
| ·非电学性质 | 第13-14页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第14-18页 |
| ·微机械剥离法 | 第14页 |
| ·超薄切片法 | 第14-15页 |
| ·表面外延生长法 | 第15页 |
| ·氧化还原法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16-18页 |
| ·石墨烯的应用 | 第18-20页 |
| ·纳米电子器件 | 第18页 |
| ·复合材料 | 第18-19页 |
| ·储能材料 | 第19页 |
| ·其他方面的应用 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究目的及研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 石墨烯及衬底的表征方法 | 第21-28页 |
| ·拉曼光谱 | 第21-23页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射 | 第24-25页 |
| ·透射电子显微镜 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-27页 |
| ·X 射线能谱仪 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 铜镍合金薄膜的制备及表征 | 第28-36页 |
| ·实验设备 | 第28-29页 |
| ·实验方案设计 | 第29-30页 |
| ·实验过程 | 第30-32页 |
| ·基底清洗 | 第30-31页 |
| ·薄膜制备过程 | 第31-32页 |
| ·样品表征及分析 | 第32-35页 |
| ·XRD 图谱分析 | 第32-33页 |
| ·X 射线能谱分析 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 铜镍合金为衬底CVD 法制备石墨烯及表征 | 第36-49页 |
| ·实验设备及原料 | 第36-37页 |
| ·实验方案设计 | 第37页 |
| ·石墨烯制备过程 | 第37-38页 |
| ·石墨烯的转移 | 第38页 |
| ·温度对石墨烯生长的影响 | 第38-41页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第39-40页 |
| ·SEM 图像分析 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41页 |
| ·合金中铜镍元素不同配比对石墨烯生长的影响 | 第41-45页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第42-43页 |
| ·SEM 图像分析 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-45页 |
| ·铜镍合金衬底的催化活性分析 | 第45-46页 |
| ·生长机制与降温过程讨论 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-51页 |
| ·全文总结 | 第49页 |
| ·展望 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 硕士期间发表的论文及参与的科研项目 | 第58页 |
