| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·论文的选题及结构体系 | 第11-15页 |
| ·高比容铝电极箔制造技术发展及研究概况 | 第11-13页 |
| ·高介电常数复合氧化膜制备急需解决的几个问题 | 第13页 |
| ·论文的选题及结构体系 | 第13-15页 |
| 第二章 铝电解电容器及铝电极箔介质膜特征 | 第15-29页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·铝及其化合物的性质 | 第15-21页 |
| ·铝元素的理化性质 | 第15-17页 |
| ·铝的主要含氧化合物 | 第17-20页 |
| ·铝的氧化物 | 第17-19页 |
| ·铝的氢氧化物 | 第19-20页 |
| ·铝－水体系的稳定性 | 第20-21页 |
| ·铝电解电容器的结构特征及特性 | 第21-23页 |
| ·铝电解电容器用阳极箔的比容 | 第23-25页 |
| ·铝腐蚀箔的表面特征 | 第25-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 硫酸钛水解工艺制备高介电常数复合介质膜 | 第29-65页 |
| ·高介电常数铝氧化膜制造技术及发展 | 第29-33页 |
| ·铝电解电容器的电介质层 | 第29-30页 |
| ·高介电常数铝氧化膜制造技术研究进展 | 第30-33页 |
| ·通过复合高介电常数阀金属氧化物提高铝电极箔比容的研究 | 第33-35页 |
| ·硫酸钛水解工艺流程及水解机理 | 第33-35页 |
| ·硫酸钛水解工艺参数的选择 | 第35-48页 |
| ·硫酸钛溶液参数的确定 | 第36-42页 |
| ·硫酸钛溶液浓度 | 第36-38页 |
| ·硫酸钛溶液的pH值 | 第38-39页 |
| ·溶液温度对铝箔性能的影响 | 第39-41页 |
| ·处理时间对铝箔性能的影响 | 第41-42页 |
| ·水解过程工艺参数的选择 | 第42-43页 |
| ·水解时间的选择 | 第42页 |
| ·水解温度的选择 | 第42-43页 |
| ·热处理过程温度和时间的选择 | 第43-48页 |
| ·处理箔与未处理箔的性能比较 | 第48-52页 |
| ·化成箔在比容上的提高 | 第48-49页 |
| ·处理箔与未处理箔在TV值上的差异 | 第49-51页 |
| ·化成箔抗水合性能的比较 | 第51-52页 |
| ·模拟铝电解电容器的性能比较及差异原因 | 第52-55页 |
| ·模拟电容器的电容量 | 第52-53页 |
| ·模拟电容器的损耗角正切值 | 第53页 |
| ·模拟电容器的漏电流 | 第53-55页 |
| ·模拟电容器的工作寿命 | 第55页 |
| ·高介电常数复合氧化膜的微观分析及表征 | 第55-61页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第56-57页 |
| ·X－射线衍射(XRD)分析 | 第57页 |
| ·X－射线光电子能谱(XPS)分析 | 第57-59页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第59-61页 |
| ·高介电常数复合氧化膜的介电常数 | 第61-62页 |
| ·存在阀金属复合氧化膜情况下的阳极氧化过程 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 钛酸钡高介电常数复合氧化膜制备初探 | 第65-77页 |
| ·钛酸钡工艺探索 | 第65-74页 |
| ·钛酸钡晶体的性质 | 第65-69页 |
| ·钛酸钡晶体的制备 | 第69-72页 |
| ·固相法 | 第69页 |
| ·液相法 | 第69-72页 |
| ·本论文采用的方法 | 第72-74页 |
| ·含有Ti4+和Ba2+离子溶液的配制 | 第72-73页 |
| ·含钛酸钡的多元复合氧化膜的制备 | 第73-74页 |
| ·钛酸钡工艺值得注意的一些问题 | 第74-76页 |
| ·配制同时含有Ti4+和Ba2+离子的水溶液 | 第74页 |
| ·水溶液的稳定性 | 第74-75页 |
| ·溶液中的Ba2+/Ti4+比 | 第75页 |
| ·钛酸钡的合成机理 | 第75页 |
| ·工业生产线上引入钛酸钡处理液的位置 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 结论与展望 | 第77-79页 |
| ·本论文的主要结论 | 第77-78页 |
| ·前景展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 附录 | 第87页 |
| 1 攻读硕士学位期间已发表和待发表的学术论文 | 第87页 |
| 2 个人简历 | 第87页 |