| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-25页 |
| ·引言 | 第6-7页 |
| ·光开关主要应用的领域 | 第7-8页 |
| ·波导型光开关 | 第8-17页 |
| ·模拟型电光开关 | 第9-13页 |
| ·定向耦合型 | 第9-10页 |
| ·Mach-Zender干涉型 | 第10-11页 |
| ·MMI开关 | 第11-13页 |
| ·数字开关 | 第13-17页 |
| ·模式演变型Y分叉数字光开关 | 第13-14页 |
| ·热光材料Y分叉数字光开关 | 第14-16页 |
| ·量子阱材料Y分叉数字光开关 | 第16页 |
| ·X结数字光开关 | 第16-17页 |
| ·各种开关的比较 | 第17页 |
| ·制作光开关器件的各种材料比较 | 第17-18页 |
| ·国内光开关发展现状 | 第18-19页 |
| ·本论文的主要内容 | 第19-20页 |
| 参考文献: | 第20-25页 |
| 第二章 Ti:LiNbO_3波导 | 第25-38页 |
| ·LiNbO_3材料的基本特性。 | 第25页 |
| ·LiNbO_3电光效应 | 第25-28页 |
| ·Ti扩散波导 | 第28-32页 |
| ·Ti扩散波导的Ti浓度分布 | 第28-30页 |
| ·扩散深度和扩散宽度分布 | 第30-31页 |
| ·Ti浓度分布对波导折射率的影响 | 第31-32页 |
| ·Z切LiNbO_3单模波导的设计 | 第32-37页 |
| 参考文献: | 第37-38页 |
| 第三章 LiNbO_3波导2×2、1×2光开关设计 | 第38-55页 |
| ·耦合型光开关 | 第38-50页 |
| ·定向耦合器开关 | 第38-45页 |
| ·反转△β设计 | 第45-50页 |
| ·耦合长度设计 | 第46-48页 |
| ·电极设计 | 第48-50页 |
| ·1×2数字光开关设计 | 第50-54页 |
| ·Y分叉数字光开关 | 第50-52页 |
| ·非对称电极数字光开关波导设计 | 第52-53页 |
| ·非对称电极数字光开关电极设计 | 第53页 |
| ·最终设计 | 第53-54页 |
| 参考文献: | 第54-55页 |
| 第四章 实验工艺 | 第55-68页 |
| ·器件制作 | 第55-60页 |
| ·基片的清洗 | 第55-56页 |
| ·波导及电极的制作 | 第56-58页 |
| ·光刻剥离法 | 第56-58页 |
| ·Ti扩散工艺 | 第58页 |
| ·SiO_2缓冲层的制作 | 第58-59页 |
| ·器件端面抛光 | 第59-60页 |
| ·器件制作工艺流程 | 第60-62页 |
| ·剥离法制作波导工艺流程: | 第60-61页 |
| ·湿法腐蚀制作电极工艺流程 | 第61-62页 |
| ·制作过程中遇到的问题 | 第62-67页 |
| 参考文献: | 第67-68页 |
| 第五章 测试与分析 | 第68-78页 |
| ·光波导测量系统 | 第68-69页 |
| ·LiNbO_3开关器件串扰测试: | 第69页 |
| ·光波偏振态的测试 | 第69-70页 |
| ·最小开关电压的测定 | 第70-71页 |
| ·测量结果 | 第71-75页 |
| ·波导通光测试: | 第71-72页 |
| ·定向耦合器开关加电压测试 | 第72-74页 |
| ·开关串扰测定: | 第74-75页 |
| ·Y分叉开关加电压测试 | 第75页 |
| ·测试分析 | 第75-77页 |
| 参考文献: | 第77-78页 |
| 第六章 总结与展望 | 第78-80页 |
| ·总结 | 第78-79页 |
| ·展望 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |