X射线运动学理论及其在半导体外延材料分析中的应用
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1．1 引言 | 第8-10页 |
| 1．2 X射线衍射简介 | 第10-11页 |
| 1．3 光荧光谱简介 | 第11-14页 |
| 本章小结 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-16页 |
| 第二章 Bragg衍射下的X射线动力学理论 | 第16-21页 |
| 2．1 布拉格—达尔文振幅递推公式 | 第16-17页 |
| 2．2 X射线动力学理论基础 | 第17-19页 |
| 本章小结 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第三章 Bragg衍射下的X射线运动学理论 | 第21-46页 |
| 3．1 X射线运动学理论 | 第21-26页 |
| 3．2 超晶格结构的运动学衍射 | 第26-30页 |
| 3．3 基本参数的分析 | 第30-43页 |
| 3．3．1 晶面倾斜 | 第31-32页 |
| 3．3．2 失配应变与弛豫 | 第32-36页 |
| 3．3．3 厚度 | 第36-38页 |
| 3．3．4 位错与临界厚度 | 第38-41页 |
| 3．3．5 组份 | 第41-42页 |
| 3．3．6 漫散射与仪器效应 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第四章 异质外延材料的X射线运动学理论分析 | 第46-69页 |
| 4．1 原理 | 第46-55页 |
| 4．1．1 衬底衍射的处理 | 第47-49页 |
| 4．1．2 薄层效应的处理 | 第49-51页 |
| 4．1．3 仪器效应的处理 | 第51-53页 |
| 4．1．4 理论结果的对比 | 第53-55页 |
| 4．2 单层结构材料的分析 | 第55-58页 |
| 4．3 量子阱结构材料分析 | 第58-63页 |
| 4．4 含超晶格结构材料的分析 | 第63-67页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 结语 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
