| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-31页 |
| ·化学机械抛光及材料去除机理 | 第8-12页 |
| ·化学机械抛光的研究进展及应用概况 | 第8-9页 |
| ·化学机械抛光过程中的界面相互作用 | 第9-10页 |
| ·化学机械抛光材料去除模型 | 第10-12页 |
| ·ZF(重型火石)光学玻璃基本性质 | 第12-18页 |
| ·光学玻璃的性能、分类及成分 | 第12页 |
| ·ZF光学玻璃的水解及对去除速率的影响 | 第12-16页 |
| ·提高ZF类光学玻璃化学稳定性的方法 | 第16-18页 |
| ·CMP抛光浆料及调配方法 | 第18-22页 |
| ·CMP粉体组成及其对抛光性能的影响 | 第18-19页 |
| ·CMP抛光浆料的调配方法 | 第19-20页 |
| ·改善浆料悬浮稳定性的途径及测试方法 | 第20-22页 |
| ·最新研究动态与待解决的问题 | 第22-28页 |
| ·抛光粉的合成 | 第22-24页 |
| ·界面相互作用及性能优化途径 | 第24-26页 |
| ·抛光浆料的调配 | 第26-28页 |
| ·本研究的立项依据及待解决的问题 | 第28-31页 |
| 第二章 1:1型电解质与六偏磷酸钠对氧化铈抛光ZF7光学玻璃的协同促进作用 | 第31-47页 |
| ·前言 | 第31-32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·主要试剂及仪器清单 | 第32-33页 |
| ·抛光粉及浆料的制备 | 第33页 |
| ·浆料Zeta电位、粒度及吸光度测定 | 第33页 |
| ·抛光速率及玻璃表面质量检测 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-45页 |
| ·1:1型电解质及六偏磷酸钠添加对抛光去除速率的影响 | 第34-35页 |
| ·氯化钠及六偏磷酸钠浓度对抛光去除速率的影响 | 第35-36页 |
| ·1:1型电解质及六偏磷酸钠添加对光学玻璃表面质量的影响 | 第36-38页 |
| ·1:1型电解质及六偏磷酸钠添加对粒子表面电性的影响 | 第38-39页 |
| ·1:1型电解质及六偏磷酸钠添加对浆料稳定性的影响 | 第39-42页 |
| ·1:1型电解质及六偏磷酸钠添加对浆料粒度的影响 | 第42-43页 |
| ·促进作用机理分析 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第三章 其他电解质对氧化铈抛光ZF7光学玻璃的影响 | 第47-62页 |
| ·前言 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·实验试剂、仪器及参数测定 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-60页 |
| ·氧化铈浆料在不同pH值下对ZF7光学玻璃抛光的MRR值比较 | 第49页 |
| ·含Ce~(3+)的氧化铈浆料在不同pH值下对ZF7光学玻璃抛光的MRR值比较 | 第49-51页 |
| ·含Ce~(3+)的氧化铈浆料在不同pH值下抛光的ZF7光学玻璃玻璃表面分析 | 第51-52页 |
| ·含和不含Ce~(3+)的氧化铈浆料抛光ZF7光学玻璃时的速率稳定性 | 第52-53页 |
| ·铈盐浓度对氧化铈浆料抛光ZF7玻璃的影响 | 第53-56页 |
| ·添加铈盐对氧化铈浆料粒度的影响 | 第56-57页 |
| ·添加铈盐氧化铈浆料悬浮稳定性的影响 | 第57-58页 |
| ·含硝酸铈的氧化铈浆料对不同光学玻璃的抛光速率比较 | 第58-59页 |
| ·铝盐、锌盐对氧化铈抛光ZF7玻璃MRR的影响 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第70页 |
