纳米晶化氧化钛薄膜的制取及性能研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-16页 |
| ·钛和钛合金 | 第7-8页 |
| ·钛及钛的基本性质 | 第7-8页 |
| ·钛金属的特殊性能 | 第8页 |
| ·氧化钛的结构和性质 | 第8-9页 |
| ·纳米氧化钛 | 第9-13页 |
| ·纳米材料 | 第9页 |
| ·纳米二氧化钛及其晶型结构 | 第9-11页 |
| ·纳米二氧化钛的性质及应用 | 第11-13页 |
| ·课题研究的背景、意义及内容 | 第13-16页 |
| ·研究背景、意义 | 第13-15页 |
| ·研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 纳米晶化薄膜的制取 | 第16-26页 |
| ·纳米薄膜的制取方法介绍 | 第16-17页 |
| ·溅射法 | 第17-19页 |
| ·溅射原理及分类 | 第17-18页 |
| ·本实验溅射工艺参数及设备 | 第18-19页 |
| ·阳极氧化 | 第19-23页 |
| ·原理概述 | 第19-20页 |
| ·氧化着色 | 第20-21页 |
| ·氧化膜形成机理模拟 | 第21-23页 |
| ·纳米氧化膜的晶化 | 第23-26页 |
| ·概述 | 第23-24页 |
| ·晶化膜成分与结构 | 第24-26页 |
| 第3章 实验内容 | 第26-36页 |
| ·实验材料及设备 | 第26-28页 |
| ·钛基材选择 | 第26页 |
| ·化学试剂的选择 | 第26-27页 |
| ·电解液的制备 | 第27页 |
| ·实验设备 | 第27页 |
| ·实验氧化装置 | 第27-28页 |
| ·实验方法 | 第28-29页 |
| ·实验试件准备 | 第28-29页 |
| ·工艺流程 | 第29页 |
| ·纳米薄膜的制备 | 第29-31页 |
| ·实验内容 | 第29-30页 |
| ·氧化膜的评价方法 | 第30-31页 |
| ·封孔处理 | 第31页 |
| ·钛基材氧化膜的晶化 | 第31-33页 |
| ·晶化方法及过程 | 第31-32页 |
| ·晶化薄膜的脱离 | 第32-33页 |
| ·玻璃基纳米氧化钛薄膜的晶化 | 第33-34页 |
| ·检测试件的制备 | 第34-35页 |
| ·薄膜表征 | 第35-36页 |
| ·扫描电镜SEM | 第35页 |
| ·X衍射 | 第35页 |
| ·紫外可见光光度计 | 第35页 |
| ·电子探针显微分析仪 | 第35-36页 |
| 第4章 实验结果与讨论 | 第36-48页 |
| ·实验参数对氧化膜的影响 | 第36-41页 |
| ·电压波形对氧化膜的影响 | 第36-37页 |
| ·电压对氧化膜着色的影响 | 第37-39页 |
| ·加压方式对氧化膜的影响 | 第39-40页 |
| ·电解液中各成份对氧化膜的影响 | 第40页 |
| ·温度对氧化膜的影响 | 第40-41页 |
| ·氧化钛薄膜的生长模型 | 第41-42页 |
| ·阳极氧化薄膜的生长动力学 | 第42-43页 |
| ·制取复杂形面氧化钛薄膜的初步工艺探讨 | 第43-44页 |
| ·薄膜表征结果 | 第44-48页 |
| ·电子扫描显微镜 | 第44-45页 |
| ·X射线衍射仪 | 第45-46页 |
| ·紫外可见光光度计 | 第46-47页 |
| ·电子探针显微分析仪 | 第47-48页 |
| 第5章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 附录 | 第54-55页 |
