| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 几种用于气体吸附分离的材料 | 第12-14页 |
| 1.3 金属有机骨架材料 | 第14-19页 |
| 1.3.1 金属有机骨架材料用于CO_2气体的吸附分离 | 第14页 |
| 1.3.2 缺陷位UiO-66材料的合成 | 第14-15页 |
| 1.3.3 缺陷位UiO-66材料的结构 | 第15-16页 |
| 1.3.4 缺陷位UiO-66材料的特征 | 第16-18页 |
| 1.3.5 缺陷位UiO-66材料对于CO_2气体的吸附分离 | 第18页 |
| 1.3.6 缺陷位UiO-66材料的亲水性研究 | 第18-19页 |
| 1.4 计算化学在MOFs中的应用 | 第19-20页 |
| 1.5 计算化学方法简介 | 第20-23页 |
| 1.5.1 密度泛函理论 | 第20-22页 |
| 1.5.2 过渡态理论 | 第22-23页 |
| 1.6 论文选题依据、意义和主要研究内容 | 第23-25页 |
| 1.6.1 本论文选题依据及意义 | 第23-24页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 理论研究CO_2气体在UiO-66(-NH_2)材料上的吸附行为 | 第25-37页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 计算模拟和方法 | 第25-26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-35页 |
| 2.3.1 干燥条件下CO_2在UiO-66(-NH_2)中的吸附 | 第26-28页 |
| 2.3.2 H_2O在UiO-66(-NH_2)中的吸附 | 第28-30页 |
| 2.3.3 H_2O存在条件下CO_2在UiO-66(-NH_2)中的吸附 | 第30-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 UiO-66(-NH_2)材料缺陷位形成的机理理论研究 | 第37-53页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 计算模拟和方法 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-50页 |
| 3.3.1 无溶剂分子存在时UiO-66(-NH_2)缺陷位形成的机理研究 | 第39-41页 |
| 3.3.2 溶剂分子H_2O存在时UiO-66(-NH_2)缺陷位形成的机理研究 | 第41-45页 |
| 3.3.4 溶剂分子NH_3存在时UiO-66(-NH_2)缺陷位形成的机理研究 | 第45-48页 |
| 3.3.5 溶剂分子NH_3·1H_2O或NH_4~++OH~-在UiO-66(-NH_2)中的吸附 | 第48-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-53页 |
| 第四章 UiO-66材料的合成、改性及表征 | 第53-67页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验仪器及原料 | 第53-54页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第53-54页 |
| 4.2.2 实验原料 | 第54页 |
| 4.3 材料的合成 | 第54-55页 |
| 4.3.1 UiO-66材料的合成 | 第54页 |
| 4.3.2 改性UiO-66材料的合成 | 第54-55页 |
| 4.4 表征技术 | 第55-56页 |
| 4.4.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第55页 |
| 4.4.2 热重分析(TGA) | 第55页 |
| 4.4.3 红外光谱(FT-IR) | 第55页 |
| 4.4.4 低压物理吸附 | 第55-56页 |
| 4.5 结果与讨论 | 第56-64页 |
| 4.5.1 UiO-66材料及改性UiO-66材料的结构表征 | 第56-60页 |
| 4.5.2 改性UiO-66材料穿透曲线的测定 | 第60-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-67页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 全文总结 | 第67-68页 |
| 5.2 课题展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第81-84页 |
