Zr-Co-Y薄膜吸气剂的制备与吸气性能研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 吸气剂薄膜及应用 | 第10-16页 |
| 1.1.1 吸气剂薄膜 | 第10-11页 |
| 1.1.2 薄膜吸气剂研究进展 | 第11-15页 |
| 1.1.3 吸气剂薄膜的应用 | 第15-16页 |
| 1.2 吸气理论 | 第16-22页 |
| 1.2.1 吸气过程基本原理 | 第16-17页 |
| 1.2.2 吸气热力学分析 | 第17-20页 |
| 1.2.3 吸气动力学分析 | 第20-22页 |
| 1.3 吸气剂薄膜在非制冷红外探测器中的应用 | 第22-24页 |
| 1.3.1 真空MEMS器件的封装 | 第22-23页 |
| 1.3.2 非制冷红外探测器中吸气剂薄膜 | 第23-24页 |
| 1.4 吸气剂国内外现状和发展趋势 | 第24-26页 |
| 1.4.1 国外研究进展 | 第24-25页 |
| 1.4.2 国内研究进展 | 第25-26页 |
| 1.5 本论文研究的吸气材料 | 第26-28页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第27页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 薄膜的生长与表征 | 第28-41页 |
| 2.1 吸气剂薄膜的磁控溅射生长 | 第28-36页 |
| 2.1.1 薄膜生长的过程分析 | 第29-32页 |
| 2.1.2 低温抑制型薄膜生长 | 第32-34页 |
| 2.1.3 吸气剂的靶材、设备和方法 | 第34-36页 |
| 2.2 具体实施途径 | 第36-41页 |
| 2.2.1 薄膜样品表征 | 第36-38页 |
| 2.2.2 吸气剂薄膜的激活 | 第38页 |
| 2.2.3 吸气性能测试 | 第38-41页 |
| 第3章 吸气剂薄膜的制备与吸气性能研究 | 第41-62页 |
| 3.1 薄膜膜层结构设计与粗糙基底的制备 | 第41-43页 |
| 3.2 调节层Ti薄膜的制备 | 第43页 |
| 3.3 吸气层Zr-Co-Y薄膜的制备工艺研究 | 第43-53页 |
| 3.3.1 溅射射功率对薄膜形貌和晶体结构的影响 | 第44-47页 |
| 3.3.2 沉积压强对薄膜形貌和晶体结构的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.3 进气流量对薄膜形貌和晶体结构的影响 | 第50-53页 |
| 3.4 Zr-Co-Y薄膜横截面形貌及成分分析 | 第53-55页 |
| 3.5 Zr-Co-Y薄膜的激活研究 | 第55-58页 |
| 3.6 Zr-Co-Y薄膜吸气剂吸气性能测试 | 第58-61页 |
| 3.6.1 保护膜对吸气剂薄膜吸气性能的影响 | 第58-59页 |
| 3.6.2 激活温度对薄膜吸气剂吸气性能的影响 | 第59-61页 |
| 3.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 薄膜吸气剂在红外探测器上的应用研究 | 第62-77页 |
| 4.1 红外探测器中吸气剂薄膜的结构 | 第62-63页 |
| 4.2 样品制备 | 第63-69页 |
| 4.2.1 金属盖板上Zr-Co-Y薄膜 | 第64-65页 |
| 4.2.2 锗窗盖板上吸气剂薄膜 | 第65-67页 |
| 4.2.3 利用原子力显微镜对NEG薄膜的研究 | 第67-69页 |
| 4.3 薄膜吸气剂在锗窗上的吸气性能 | 第69-73页 |
| 4.3.1 吸气剂薄膜新型激活途径 | 第69-71页 |
| 4.3.2 薄膜的吸气速率与吸气容量分析 | 第71-73页 |
| 4.4 Zr-Co-Y薄膜吸气剂的吸气机理研究 | 第73-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 第5章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 5.1 结论 | 第77-78页 |
| 5.2 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
