| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 钽铌基光学薄膜的研究概况 | 第12-15页 |
| 1.2.1 Ta_2O_5薄膜的国内外研究进展 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Nb_2O_5薄膜的国内外研究进展 | 第13-15页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 钽铌基薄膜光学性能的理论计算 | 第16-37页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 Ta_2O_5与Nb_2O_5体块的电子结构 | 第16-21页 |
| 2.2.1 体块模型构建及计算参数 | 第16-19页 |
| 2.2.2 体块电子结构 | 第19-21页 |
| 2.3 Ta_2O_5与Nb_2O_5体块的光学性质 | 第21-29页 |
| 2.3.1 体块介电函数 | 第22-23页 |
| 2.3.2 体块折射率与消光系数 | 第23-26页 |
| 2.3.3 体块反射与吸收光谱 | 第26-29页 |
| 2.4 Ta_2O_5与Nb_2O_5薄膜的电子结构与光学性能 | 第29-35页 |
| 2.4.1 薄膜电子结构 | 第30-32页 |
| 2.4.2 薄膜光学性能 | 第32-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 钽铌基薄膜的制备及基本光学性能研究 | 第37-55页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 钽铌基光学薄膜的制备 | 第37-43页 |
| 3.2.1 陶瓷靶材的制备 | 第37-38页 |
| 3.2.2 PLD法制备钽铌基光学薄膜 | 第38-40页 |
| 3.2.3 钽铌基光学薄膜的微观形貌 | 第40-43页 |
| 3.3 钽铌基薄膜的基本光学性质 | 第43-49页 |
| 3.3.1 透射及吸收特性 | 第43-46页 |
| 3.3.2 光学带隙 | 第46-49页 |
| 3.4 钽铌基薄膜的折射率调控 | 第49-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 钽铌基光学薄膜的非线性光学特性 | 第55-62页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 Z扫描探测 | 第55-57页 |
| 4.3 钽铌基薄膜的三阶光学非线性性质 | 第57-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
