| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 ~(220)Rn室国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3 研究内容及目标 | 第15-18页 |
| 第2章 ~(220)Rn浓度的测量方法 | 第18-22页 |
| 2.1 瞬时采样测量 | 第18-19页 |
| 2.2 累积采样测量 | 第19-20页 |
| 2.3 连续采样测量 | 第20-21页 |
| 2.4 小结 | 第21-22页 |
| 第3章 单闪烁室流气静态法 | 第22-38页 |
| 3.1 测量原理 | 第22-23页 |
| 3.2 测量装置 | 第23-25页 |
| 3.3 理论计算 | 第25-30页 |
| 3.3.1 残存因子q的理论推导 | 第26-28页 |
| 3.3.2 探测效率δ的理论推导 | 第28-29页 |
| 3.3.3 刻度系数的理论推导 | 第29-30页 |
| 3.4 实验测定 | 第30-36页 |
| 3.4.1 刻度系数的测量结果 | 第31-34页 |
| 3.4.2 残存因子q的测量结果 | 第34页 |
| 3.4.3 基于流气式~(220)Rn源的验证实验 | 第34-36页 |
| 3.5 误差分析 | 第36-37页 |
| 3.6 小结 | 第37-38页 |
| 第4章 半导体α能谱探测法 | 第38-44页 |
| 4.1 测量原理 | 第38页 |
| 4.2 理论推导 | 第38-40页 |
| 4.3 刻度实验 | 第40-42页 |
| 4.4 单闪烁室流气静态法与RAD7测~(220)Rn的结果比对 | 第42-43页 |
| 4.5 小结 | 第43-44页 |
| 第5章 ~(220)Rn室的性能研究 | 第44-50页 |
| 5.1 ~(220)Rn室~(220)Rn浓度的调控 | 第44-46页 |
| 5.2 ~(220)Rn室~(220)Rn浓度的空间均匀性 | 第46-48页 |
| 5.3~(220)Rn室~(220)Rn浓度的时间稳定性 | 第48页 |
| 5.4 小结 | 第48-50页 |
| 第6章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 总结 | 第50-51页 |
| 6.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读学位期间的科研成果 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
