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Novastrat型透明聚酰亚胺薄膜质子和电子辐照效应

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-25页
    1.1 课题背景及意义第8-9页
    1.2 聚酰亚胺薄膜分类及应用第9-13页
        1.2.1 透明聚酰亚胺薄膜第9-11页
        1.2.2 耐电晕聚酰亚胺薄膜第11页
        1.2.3 导电聚酰亚胺薄膜第11-12页
        1.2.4 高导热聚酰亚胺薄膜第12-13页
    1.3 透明PI膜在薄膜相机上的应用第13-15页
    1.4 聚酰亚胺薄膜光学改性第15-17页
    1.5 聚酰亚胺薄膜空间环境适应性第17-24页
        1.5.1 聚酰亚胺薄膜质子辐照效应第18-20页
        1.5.2 聚酰亚胺薄膜电子辐照效应第20-22页
        1.5.3 聚酰亚胺薄膜紫外辐照效应第22-23页
        1.5.4 聚酰亚胺薄膜原子氧侵蚀效应第23-24页
    1.6 本文主要研究内容第24-25页
第2章 试验材料、设备及研究方法第25-33页
    2.1 试验材料第25页
    2.2 辐照试验与性能测试第25-27页
        2.2.1 带电粒子辐照试验第25-26页
        2.2.2 拉伸试验第26-27页
        2.2.3 光学透过率测试第27页
    2.3 辐照试验的蒙特卡洛模拟计算第27-29页
    2.4 透明PI膜辐照前后微观形貌及组织结构观测第29-33页
        2.4.1 表面形貌及断口观察第29-30页
        2.4.2 傅里叶变换红外光谱分析第30页
        2.4.3 拉曼光谱分析第30页
        2.4.4 X射线光电子能谱分析第30-31页
        2.4.5 热分析第31页
        2.4.6 自由基分析第31-32页
        2.4.7 物相分析第32-33页
第3章 透明PI膜带电粒子辐照效应第33-46页
    3.1 透明PI膜分子内所含基团及性能测试第33-37页
        3.1.1 透明PI膜分子内所含基团检测第33-36页
        3.1.2 透明PI膜与其他PI膜光学和力学性能差异第36-37页
    3.2 透明PI膜质子辐照性能变化规律第37-40页
        3.2.1 光学性能变化第37-39页
        3.2.2 力学性能变化第39-40页
        3.2.3 表面形貌变化第40页
    3.3 透明PI膜电子辐照性能变化规律第40-44页
        3.3.1 光学性能变化第40-43页
        3.3.2 力学性能变化第43页
        3.3.3 表面形貌变化第43-44页
    3.4 本章小结第44-46页
第4章 透明PI膜带电粒子辐照损伤机理第46-67页
    4.1 透明PI膜辐照前后样品断口观察第46-49页
        4.1.1 质子辐照断口形貌第46-48页
        4.1.2 电子辐照断口形貌第48-49页
    4.2 辐照后透明PI膜Tg变化情况第49-50页
    4.3 辐照后透明PI膜化学基团变化情况第50-62页
        4.3.1 辐照后透明PI膜分子基团检测分析第50-53页
        4.3.2 辐照后透明PI膜典型元素检测分析第53-61页
        4.3.3 拉曼光谱分析第61-62页
    4.4 带电粒子辐照后PI膜内自由基情况第62-65页
    4.5 辐照前后物相分析第65-66页
    4.6 本章小结第66-67页
结论第67-68页
参考文献第68-73页
致谢第73页

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