| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 钨掺杂类金刚石薄膜材料 | 第12-17页 |
| 1.1.1 类金刚石薄膜材料 | 第12-14页 |
| 1.1.2 元素掺杂类金刚石薄膜材料 | 第14-15页 |
| 1.1.3 钨掺杂类金刚石薄膜材料研究进展 | 第15-17页 |
| 1.2 水润滑类金刚石薄膜材料 | 第17-22页 |
| 1.2.1 水润滑材料 | 第17-19页 |
| 1.2.2 类金刚石薄膜材料水润滑效应 | 第19-20页 |
| 1.2.3 元素掺杂类金刚石薄膜水润滑研究进展 | 第20-22页 |
| 1.3 本论文研究意义及内容 | 第22-25页 |
| 1.3.1 选题依据及研究内容 | 第22-25页 |
| 第二章 实验设备及分析测试方法 | 第25-31页 |
| 2.1 沉积设备及原理 | 第25-27页 |
| 2.2 薄膜结构与性能表征方法 | 第27-30页 |
| 2.2.1 微观形貌 | 第27页 |
| 2.2.2 成分与结构 | 第27-29页 |
| 2.2.3 力学性能 | 第29-30页 |
| 2.2.4 摩擦学性能 | 第30页 |
| 2.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 工艺参数对WC/a-C:H薄膜的结构及性能影响 | 第31-53页 |
| 3.1 溅射靶电流对WC/a-C:H薄膜结构和性能的影响 | 第31-38页 |
| 3.1.1 不同靶电流薄膜的制备 | 第31页 |
| 3.1.2 不同靶电流下薄膜的结构与性能 | 第31-36页 |
| 3.1.3 不同靶电流下薄膜摩擦学行为分析 | 第36-38页 |
| 3.2 溅射靶功率对WC/a-C:H薄膜结构和性能的影响 | 第38-44页 |
| 3.2.1 不同靶功率薄膜的制备 | 第38-39页 |
| 3.2.2 不同靶功率下薄膜结构与性能 | 第39-42页 |
| 3.2.3 不同靶功率薄膜摩擦学行为分析 | 第42-44页 |
| 3.3 不同基体上WC/a-C:H薄膜摩擦学承载能力对比研究 | 第44-52页 |
| 3.3.1 WC/a-C:H薄膜承载能力对比及失效机理分析 | 第45-50页 |
| 3.3.2 WC/a-C:H摩擦学承载能力判断机理讨论 | 第50-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 WC/a-C:H薄膜水基环境摩擦学行为研究 | 第53-79页 |
| 4.1 WC/a-C:H薄膜在不同环境中与摩擦副的响应性研究 | 第53-62页 |
| 4.1.1 薄膜在不同环境中的摩擦磨损 | 第53-57页 |
| 4.1.2 摩擦机理分析 | 第57-62页 |
| 4.2 乳化液中WC/a-C:H薄膜的摩擦学性能研究 | 第62-67页 |
| 4.2.1 不同油含量乳化液的制备 | 第62页 |
| 4.2.2 乳化液中薄膜的摩擦磨损 | 第62-64页 |
| 4.2.3 摩擦机理分析 | 第64-67页 |
| 4.3 海水中WC/a-C:H薄膜结构和摩擦学性能研究 | 第67-78页 |
| 4.3.1 不同偏压WC/a-C:H薄膜的制备 | 第67页 |
| 4.3.2 WC/a-C:H薄膜的结构与力学性能 | 第67-74页 |
| 4.3.3 海水中WC/a-C:H薄膜的摩擦磨损 | 第74-76页 |
| 4.3.4 摩擦机理分析 | 第76-78页 |
| 4.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 5.1 结论 | 第79-80页 |
| 5.2 展望 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 附录A：攻读硕士学位期间发表论文及所获奖励 | 第89-91页 |
| 附录B：参与的科研项目 | 第91页 |
