| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 1.绪论 | 第14-34页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 太阳能电池发展简介 | 第15-17页 |
| 1.3 太阳能电池的工作原理 | 第17-19页 |
| 1.4 太阳能电池的材料 | 第19-24页 |
| 1.4.1 Si材料太阳能电池 | 第20-21页 |
| 1.4.2 Ⅲ-Ⅴ族材料太阳能电池 | 第21-23页 |
| 1.4.3 其它材料太阳能电池 | 第23-24页 |
| 1.5 纳米线太阳能电池 | 第24-27页 |
| 1.6 聚光叠层太阳能电池 | 第27-29页 |
| 1.7 本文主要内容及创新点 | 第29-34页 |
| 1.7.1 论文主要内容 | 第29-31页 |
| 1.7.2 论文主要创新点 | 第31-34页 |
| 2.纳米结构太阳能电池的基本理论与数值模拟方法 | 第34-50页 |
| 2.1 引言 | 第34页 |
| 2.2 径向pn结纳米线太阳能电池的物理学原理 | 第34-39页 |
| 2.2.1 太阳能电池物理学的基本方程 | 第34-36页 |
| 2.2.2 径向pn结纳米线太阳能电池物理学模型 | 第36-39页 |
| 2.3 纳米结构太阳能电池光学特性的数值模拟 | 第39-47页 |
| 2.3.1 引言 | 第39-40页 |
| 2.3.2 有限元方法简介 | 第40-44页 |
| 2.3.3 有限元法的基本步骤 | 第44-46页 |
| 2.3.4 利用有限元方法求解赫姆霍兹方程 | 第46-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-50页 |
| 3.Ⅲ-Ⅴ族纳米线太阳能电池的设计与制作 | 第50-88页 |
| 3.1 引言 | 第50-52页 |
| 3.2 纳米线制作过程的发展 | 第52-54页 |
| 3.3 金属催化剂VLS方法制作纳米线 | 第54-57页 |
| 3.4 同质结纳米线太阳能电池的光学模拟 | 第57-69页 |
| 3.4.1 引言 | 第58页 |
| 3.4.2 实验细节 | 第58-59页 |
| 3.4.3 模型细节 | 第59-62页 |
| 3.4.4 计算结果与分析 | 第62-69页 |
| 3.5 异质结纳米线太阳能电池的光学模拟 | 第69-76页 |
| 3.5.1 引言 | 第69-70页 |
| 3.5.2 模型细节 | 第70-71页 |
| 3.5.3 计算结果与分析 | 第71-75页 |
| 3.5.4 总结 | 第75-76页 |
| 3.6 GaAs纳米线的制作工艺 | 第76-85页 |
| 3.6.1 引言 | 第76页 |
| 3.6.2 GaAs材料的准备 | 第76-77页 |
| 3.6.3 电子束曝光 | 第77-79页 |
| 3.6.4 ICP刻蚀SiO_2掩膜 | 第79-83页 |
| 3.6.5 ICP刻蚀GaAs | 第83-85页 |
| 3.7 本章小结 | 第85-88页 |
| 4.纳米结构菲涅尔透镜的设计与制作 | 第88-120页 |
| 4.1 引言 | 第88-89页 |
| 4.2 纳米结构菲涅尔透镜的设计 | 第89-95页 |
| 4.2.1 Spire Ⅲ-Ⅴ族叠层太阳能电池简介 | 第89-91页 |
| 4.2.2 纳米结构菲涅尔透镜的设计 | 第91-95页 |
| 4.3 纳米结构菲涅尔透镜阵列的光学特性 | 第95-104页 |
| 4.3.1 模型细节 | 第95-97页 |
| 4.3.2 计算结果与分析 | 第97-104页 |
| 4.4 菲涅尔透镜的制作工艺 | 第104-113页 |
| 4.4.1 引言 | 第104-105页 |
| 4.4.2 Spire太阳能电池的准备 | 第105页 |
| 4.4.3 电子束曝光 | 第105-107页 |
| 4.4.4 ICP刻蚀GaAs | 第107-111页 |
| 4.4.5 ITO透明电极的制作 | 第111-113页 |
| 4.5 实验结果测试 | 第113-118页 |
| 4.5.1 I-V曲线测试原理 | 第113-116页 |
| 4.5.2 实际样品I-V曲线测试 | 第116-118页 |
| 4.6 本章小结 | 第118-120页 |
| 5.总结与展望 | 第120-122页 |
| 5.1 总结 | 第120-121页 |
| 5.2 展望 | 第121-122页 |
| 6.参考文献 | 第122-132页 |
| 作者简介 | 第132页 |