摘要 | 第2-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
第一章 前言 | 第9-29页 |
1.1 多孔材料 | 第9-12页 |
1.1.1 多孔二氧化硅的介绍 | 第9-10页 |
1.1.2 多孔石墨烯 | 第10-11页 |
1.1.3 介孔生物活性玻璃 | 第11-12页 |
1.2 分子印迹概述 | 第12-16页 |
1.2.1 分子印迹技术原理 | 第12-13页 |
1.2.2 分子印迹材料的制备 | 第13-15页 |
1.2.2.1 本体印迹 | 第13-14页 |
1.2.2.2 表面印迹 | 第14页 |
1.2.2.3 表位印迹 | 第14-15页 |
1.2.3 分子印迹技术的应用 | 第15-16页 |
1.3 分子印迹电化学传感器 | 第16-20页 |
1.3.1 分子印迹电化学传感器的原理及分类 | 第16-17页 |
1.3.2 分子印迹电化学传感器的制备 | 第17-18页 |
1.3.3 分子印迹电化学传感器的应用 | 第18-20页 |
1.4 本论文的选题依据和研究内容 | 第20页 |
1.4.1 选题依据 | 第20页 |
1.4.2 研究内容 | 第20页 |
1.5 参考文献 | 第20-29页 |
第二章 基于级次多孔二氧化硅球构建2,4-D检测的分子印迹电化学传感器 | 第29-52页 |
2.1 引言 | 第29-30页 |
2.2 实验部分 | 第30-33页 |
2.2.1 实验试剂与仪器 | 第30-31页 |
2.2.2 HPSNs-NH_2合成 | 第31-32页 |
2.2.3 MIP和NIP传感器制备 | 第32-33页 |
2.3 结果与讨论 | 第33-46页 |
2.3.1 材料表征 | 第33-36页 |
2.3.2 MIPf/HPSNs-NH_2/GCE电化学行为 | 第36-40页 |
2.3.3 2,4-D检测的条件优化 | 第40-42页 |
2.3.4 MIP传感器对2,4-D检测的线性范围及检出限 | 第42-43页 |
2.3.5 分子印迹效果和2,4-D测定中的干扰实验 | 第43-45页 |
2.3.6 电极的重现性和稳定性 | 第45页 |
2.3.7 实际样品检测 | 第45-46页 |
2.4 结论 | 第46页 |
2.5 参考文献 | 第46-52页 |
第三章 基于多孔石墨烯构建2,4-D检测的分子印迹电化学传感器 | 第52-70页 |
3.1 引言 | 第52页 |
3.2 实验部分 | 第52-55页 |
3.2.1 主要试剂与仪器 | 第53-54页 |
3.2.2 多孔石墨烯合成 | 第54-55页 |
3.2.3 MIP和NIP传感器制备 | 第55页 |
3.3 结果与讨论 | 第55-68页 |
3.3.1 材料表征 | 第55-58页 |
3.3.2 MIP/CS-rGO/GCE电化学行为 | 第58-63页 |
3.3.3 2,4-D检测的条件优化 | 第63-64页 |
3.3.4 MIP传感器对2,4-D检测的线性范围及检出限 | 第64-65页 |
3.3.5 分子印迹效果和2,4-D测定中的干扰实验 | 第65-67页 |
3.3.6 电极的重现性和稳定性 | 第67页 |
3.3.7 实际样品检测 | 第67-68页 |
3.4 结论 | 第68页 |
3.5 参考文献 | 第68-70页 |
第四章 基于介孔生物活性玻璃构建用于MNZ检测的分子印迹电化学传感器 | 第70-88页 |
4.1 引言 | 第70页 |
4.2 实验部分 | 第70-73页 |
4.2.1 实验试剂与仪器 | 第70-72页 |
4.2.2 MBGs合成 | 第72-73页 |
4.2.3 MIP和NIP聚合物制备 | 第73页 |
4.2.4 MIPPy/MBGs/GCE传感器制备 | 第73页 |
4.3 结果与讨论 | 第73-85页 |
4.3.1 材料表征 | 第73-76页 |
4.3.2 MIPPyf/MBGs电极的电化学行为 | 第76-79页 |
4.3.3 MNZ检测的条件优化 | 第79-81页 |
4.3.4 MIPPy/MBGs/GCE传感器对MNZ检测的线性范围及检出限 | 第81-82页 |
4.3.5 分子印迹效果和MNZ测定中的干扰实验 | 第82-84页 |
4.3.6 电极的重现性和稳定性 | 第84页 |
4.3.7 实际样品检测 | 第84-85页 |
4.4 结论 | 第85页 |
4.5 参考文献 | 第85-88页 |
致谢 | 第88-89页 |
硕士研究生期间发表的论文 | 第89-90页 |