| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 空间原子氧环境 | 第9-12页 |
| 1.2.1 原子氧的形成机制 | 第9-10页 |
| 1.2.2 原子氧对材料的作用 | 第10-12页 |
| 1.3 空间等离子体环境 | 第12-14页 |
| 1.4 聚酰亚胺的抗原子氧改性及研究现状 | 第14-18页 |
| 1.4.1 聚酰亚胺的基本性质 | 第14-16页 |
| 1.4.2 聚酰亚胺的抗原子氧改性 | 第16-17页 |
| 1.4.3 国内外研究现状 | 第17-18页 |
| 1.5 防静电技术及其研究现状 | 第18-20页 |
| 1.6 研究目的与内容 | 第20-22页 |
| 第2章 材料、设备与实验方法 | 第22-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第22页 |
| 2.1.2 抗原子氧改性层制备材料 | 第22-23页 |
| 2.2 实验设备与参数 | 第23-27页 |
| 2.2.1 抗原子氧改性层制备装置 | 第23-24页 |
| 2.2.2 光学透过率测试装置 | 第24页 |
| 2.2.3 表面活化程度测试 | 第24页 |
| 2.2.4 表面方块电阻测试 | 第24-25页 |
| 2.2.5 原子氧地面模拟装置 | 第25页 |
| 2.2.6 表面形貌观察 | 第25-26页 |
| 2.2.7 元素组成、价态分析 | 第26-27页 |
| 第3章 聚酰亚胺抗原子氧表面改性技术的研究 | 第27-63页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 聚酰亚胺活化工艺的研究 | 第27-31页 |
| 3.2.1 聚酰亚胺的光活化 | 第28-29页 |
| 3.2.2 聚酰亚胺的湿化学法活化 | 第29-31页 |
| 3.3 聚酰亚胺的硅烷化表面改性 | 第31-50页 |
| 3.3.1 HMDS 改性聚酰亚胺的研究 | 第31-35页 |
| 3.3.2 bis 改性聚酰亚胺的研究 | 第35-44页 |
| 3.3.3 MTS 改性聚酰亚胺的研究 | 第44-50页 |
| 3.4 聚酰亚胺的离子交换法表面改性 | 第50-58页 |
| 3.4.1 离子交换法制备 Al2O3/聚酰亚胺 | 第51-55页 |
| 3.4.2 离子交换法制备 ZnO/聚酰亚胺 | 第55-58页 |
| 3.5 聚酰亚胺抗原子氧的其他方法 | 第58-61页 |
| 3.5.1 SnO_2/聚酰亚胺的制备 | 第58-59页 |
| 3.5.2 SnO_2/聚酰亚胺的性能、形貌和结构分析 | 第59-60页 |
| 3.5.3 SnO_2/聚酰亚胺的原子氧侵蚀试验 | 第60-61页 |
| 3.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 聚酰亚胺抗原子氧改性与 ITO 复合膜损伤效应的研究 | 第63-73页 |
| 4.1 引言 | 第63页 |
| 4.2 ITO 涂层的制备 | 第63页 |
| 4.3 涂层的性能、形貌和结构分析 | 第63-68页 |
| 4.3.1 光学透过率 | 第63-65页 |
| 4.3.2 导电性测试 | 第65页 |
| 4.3.3 表面形貌 | 第65-67页 |
| 4.3.4 ITO 涂层结合力测试 | 第67-68页 |
| 4.4 ITO/抗原子氧表面改性聚酰亚胺的原子氧侵蚀试验 | 第68-71页 |
| 4.4.1 质量损失变化 | 第68-69页 |
| 4.4.2 光学透过率 | 第69-70页 |
| 4.4.3 表面形貌 | 第70-71页 |
| 4.4.4 导电性测试 | 第71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
