光学自由曲面抛光力/位耦合控制研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题来源和研究目的及意义 | 第11-12页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第11页 |
| 1.1.2 课题背景、研究目的及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 自由曲面超精密抛光技术研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 柔顺控制技术研究现状 | 第14-18页 |
| 1.3.1 被动柔顺控制 | 第14-15页 |
| 1.3.2 主动柔顺控制 | 第15-18页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 光学自由曲面材料去除模型与抛光力模型构建 | 第19-37页 |
| 2.1 抛光去除机理 | 第19-20页 |
| 2.2 Preston 方程 | 第20-22页 |
| 2.3 抛光接触压力分布及影响因素分析 | 第22-27页 |
| 2.3.1 抛光接触压力分布 | 第22-25页 |
| 2.3.2 抛光接触压力影响因素分析 | 第25-27页 |
| 2.4 材料去除率模型建立及分析 | 第27-30页 |
| 2.4.1 材料去除率数学模型 | 第27-29页 |
| 2.4.2 材料去除率影响因素分析 | 第29-30页 |
| 2.5 光学自由曲面抛光力模型建立及分析 | 第30-33页 |
| 2.5.1 恒转速时抛光力控制模型 | 第31-32页 |
| 2.5.2 抛光力影响因素分析 | 第32-33页 |
| 2.6 参数规划及设定 | 第33-35页 |
| 2.7 本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 光学自由曲面超精密抛光机床的运动学研究 | 第37-59页 |
| 3.1 超精密抛光机床结构 | 第37-38页 |
| 3.2 超精密抛光机床运动学建模 | 第38-45页 |
| 3.2.1 运动学坐标系的建立 | 第38-39页 |
| 3.2.2 工件坐标系到工具坐标系的坐标变换 | 第39-43页 |
| 3.2.3 超精密抛光机床的运动学逆解 | 第43-45页 |
| 3.3 超精密抛光机床的运动学逆解仿真计算 | 第45-52页 |
| 3.3.1 螺旋线轨迹点创建 | 第45-48页 |
| 3.3.2 工具加工位置点数据计算 | 第48-49页 |
| 3.3.3 运动学逆解仿真计算 | 第49-52页 |
| 3.4 超精密抛光机床的运动学逆解模型验证 | 第52-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 光学自由曲面抛光力/位耦合控制仿真研究 | 第59-81页 |
| 4.1 阻抗控制原理 | 第59-61页 |
| 4.2 基于阻抗控制的抛光力控制策略 | 第61-66页 |
| 4.2.1 基于位置的阻抗控制目标动力学模型 | 第61-62页 |
| 4.2.2 抛光力跟踪实现 | 第62-64页 |
| 4.2.3 抛光力稳态误差分析 | 第64-66页 |
| 4.3 光学自由曲面抛光力/位耦合控制仿真模型 | 第66-70页 |
| 4.3.1 抛光力控制系统仿真框图 | 第66-67页 |
| 4.3.2 超精密抛光机床的速度雅可比矩阵求解 | 第67-69页 |
| 4.3.3 超精密抛光机床的力雅可比矩阵求解 | 第69-70页 |
| 4.4 力/位耦合控制仿真实验及结果分析 | 第70-79页 |
| 4.4.1 位置控制环仿真结果及分析 | 第70-72页 |
| 4.4.2 阻抗控制环仿真结果及分析 | 第72-77页 |
| 4.4.3 基于位置的阻抗控制仿真结果及分析 | 第77-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第5章 结论与展望 | 第81-83页 |
| 5.1 结论 | 第81-82页 |
| 5.2 创新点 | 第82页 |
| 5.3 研究展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
