彩色滤光片阵列制作工艺及应用研究
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题研究背景和目的 | 第8-11页 |
| 1.2 微纳加工技术 | 第11-15页 |
| 1.2.1 微纳米压印技术 | 第11-14页 |
| 1.2.2 薄膜沉积技术 | 第14-15页 |
| 1.2.3 数字光刻技术 | 第15页 |
| 1.3 本论文的主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 电磁场理论及薄膜传输矩阵 | 第17-25页 |
| 2.1 电磁场理论 | 第17-19页 |
| 2.1.1 麦克斯韦方程组 | 第17-18页 |
| 2.1.2 边界条件 | 第18-19页 |
| 2.1.3 坡印廷定理 | 第19页 |
| 2.2 薄膜传输矩阵 | 第19-25页 |
| 2.2.1 单层介质膜 | 第19-23页 |
| 2.2.2 多层介质膜 | 第23-25页 |
| 第三章 彩色滤光片阵列 | 第25-36页 |
| 3.1 金属-介质-金属薄膜彩色滤光片 | 第25-30页 |
| 3.1.1 金属-介质-金属结构反射滤光特性分析 | 第25-28页 |
| 3.1.2 彩色滤光片结构制备 | 第28-29页 |
| 3.1.3 光谱测试 | 第29-30页 |
| 3.2 彩色滤光片阵列制作工艺 | 第30-35页 |
| 3.2.1 DMD 光刻 | 第30-32页 |
| 3.2.2 电铸 | 第32-33页 |
| 3.2.3 紫外压印及金属镀膜 | 第33-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 基于滤光阵列的莫尔动态防伪薄膜 | 第36-46页 |
| 4.1 莫尔图形防伪技术 | 第36-39页 |
| 4.1.1 莫尔条纹形成原理 | 第36-37页 |
| 4.1.2 动态莫尔图形 | 第37-39页 |
| 4.2 无油墨动态莫尔图形 | 第39-45页 |
| 4.2.1 微透镜阵列制作工艺 | 第40-43页 |
| 4.2.2 无油墨动态莫尔图形的制作工艺 | 第43-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 5.1 总结 | 第46页 |
| 5.2 展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
