| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-34页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 半导体光催化概论 | 第9-22页 |
| 1.2.1 半导体光催化原理 | 第9-11页 |
| 1.2.2 光催化剂及光催化活性评价 | 第11-13页 |
| 1.2.3 光催化材料的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.4 光催化活性提高的主要方法 | 第14-22页 |
| 1.3 g-C_3N_4的简介 | 第22-26页 |
| 1.3.1 g-C_3N_4的发展历史 | 第22-23页 |
| 1.3.2 g-C_3N_4的结构与性质 | 第23-24页 |
| 1.3.3 g-C_3N_4的制备方法 | 第24-26页 |
| 1.4 论文选题与主要研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-34页 |
| 第二章 Ni/g-S-C_3N_4光催化剂制备及其光催化分解水制氢的性能研究 | 第34-59页 |
| 2.1 引言 | 第34-35页 |
| 2.1.1 本章设计构思与创新点 | 第35页 |
| 2.2 实验部分 | 第35-38页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第35页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第35-36页 |
| 2.2.3 光催化剂制备 | 第36-37页 |
| 2.2.4 测试与表征方法 | 第37-38页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第38-52页 |
| 2.3.1 相结构与形貌 | 第38-40页 |
| 2.3.2 比表面积和孔分布 | 第40-41页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第41-42页 |
| 2.3.4 催化剂的光学性质和能带结构分析 | 第42-46页 |
| 2.3.5 红外分析 | 第46页 |
| 2.3.6 光催化活性及稳定性分析 | 第46-48页 |
| 2.3.7 荧光分析 | 第48页 |
| 2.3.8 光电性能测试 | 第48-50页 |
| 2.3.9 光催化反应机理研究 | 第50-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 第三章 Co@g-C_3N_4核-壳结构光催化剂构建及其光解水制氢性能的研究 | 第59-73页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.1.1 本章设计构思与创新点 | 第60页 |
| 3.2 实验部分 | 第60-62页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第60页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第60-61页 |
| 3.2.3 光催化剂制备 | 第61-62页 |
| 3.2.4 光催化活性测试 | 第62页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第62-69页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射分析 | 第62-63页 |
| 3.3.2 TEM分析 | 第63-64页 |
| 3.3.3 XPS分析 | 第64-65页 |
| 3.3.4 紫外可见漫反射 | 第65-66页 |
| 3.3.5 催化剂的产氢性能测试 | 第66-67页 |
| 3.3.6 阻抗分析 | 第67-68页 |
| 3.3.7 光催化机理 | 第68-69页 |
| 3.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 第四章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 4.1 总结 | 第73页 |
| 4.2 展望 | 第73-75页 |
| 硕士期间所获科研成果及参与课题 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |