| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-26页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 纳米技术的发展及现状 | 第7-10页 |
| 1.2.1 纳米技术的发展史 | 第7-8页 |
| 1.2.2 纳米技术的现状及国内外发展动态 | 第8-10页 |
| 1.3 膜技术与纳米薄膜 | 第10-11页 |
| 1.4 纳米薄膜的制备方法 | 第11-20页 |
| 1.4.1 旋转涂膜法 | 第13-17页 |
| 1.4.2 蒸发沉积法 | 第17-20页 |
| 1.5 纳米薄膜的表征 | 第20-24页 |
| 1.5.1 纳米薄膜的尺寸 | 第20-22页 |
| 1.5.2 纳米薄膜的玻璃化转变温度 | 第22-23页 |
| 1.5.3 纳米薄膜的反浸润性 | 第23-24页 |
| 1.6 本论文研究的目的和意义 | 第24-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-36页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验原材料 | 第26-27页 |
| 2.3 实验仪器设备 | 第27-32页 |
| 2.3.1 旋转涂膜机 | 第27-28页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第28-32页 |
| 2.4 高纯度溶剂的制备 | 第32-34页 |
| 2.5 聚苯乙烯溶液的配制 | 第34页 |
| 2.6 纳米薄膜的制备 | 第34-35页 |
| 2.6.1 旋转涂膜 | 第34-35页 |
| 2.6.2 蒸发沉积 | 第35页 |
| 2.7 原子力显微镜的表征 | 第35-36页 |
| 第三章 不同浓度下薄膜的性质 | 第36-45页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 浓度对纳米薄膜的影响 | 第36-43页 |
| 3.2.1 浓度对纳米薄膜尺寸的影响分析 | 第36-41页 |
| 3.2.2 浓度对纳米薄膜表面粗糙度的影响分析 | 第41-43页 |
| 3.3 原子力显微镜在测试中造成的偏差说明 | 第43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 极低浓度下薄膜的特点及两种制备方法的比较 | 第45-57页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 相对分子质量对纳米薄膜的影响 | 第45-52页 |
| 4.2.1 相对分子质量对纳米薄膜尺寸的影响分析 | 第45-50页 |
| 4.2.2 相对分子质量对纳米薄膜表面粗糙度的影响分析 | 第50-52页 |
| 4.3 两种制备方法对纳米薄膜的影响及相互之间的比较 | 第52-55页 |
| 4.3.1 制备方法对纳米薄膜尺寸的影响分析 | 第52-54页 |
| 4.3.2 制备方法对纳米薄膜表面粗糙度的影响分析 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 薄膜中聚苯乙烯分子模型的建立 | 第57-61页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 聚苯乙烯分子模型的建立及模拟结果分析 | 第57-60页 |
| 5.2.1 分子模型的建立 | 第57-58页 |
| 5.2.2 模拟结果分析 | 第58-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 全文主要结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
