| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 硝基芳香族化合物的来源及特点 | 第10页 |
| 1.2 含NACs废水常用的处理技术 | 第10-14页 |
| 1.2.1 物理法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 化学法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 生化法 | 第13-14页 |
| 1.3 零价铁还原技术的发展 | 第14-16页 |
| 1.3.1 零价铁还原机理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 二元金属体系 | 第15页 |
| 1.3.3 纳米零价铁技术 | 第15页 |
| 1.3.4 零价铁组合技术 | 第15-16页 |
| 1.4 Fenton氧化技术的发展 | 第16-18页 |
| 1.4.1 原理 | 第16页 |
| 1.4.2 光Fenton与超声Fenton | 第16-17页 |
| 1.4.3 类Fenton与非均相Fenton | 第17页 |
| 1.4.4 零价铁Fenton | 第17-18页 |
| 1.5 零价铁与Fenton技术的联用 | 第18-19页 |
| 1.6 课题研究背景及主要内容 | 第19-21页 |
| 1.6.1 课题研究背景 | 第19页 |
| 1.6.2 课题研究思路 | 第19页 |
| 1.6.3 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 1.6.4 技术路线 | 第20-21页 |
| 2. “零价铁-零价铁Fenton”耦合技术降解DNAN废水研究 | 第21-39页 |
| 2.1 材料与方法 | 第21-25页 |
| 2.1.1 实验仪器与药品 | 第21-23页 |
| 2.1.2 实验装置及过程 | 第23页 |
| 2.1.3 模拟废水组成 | 第23-24页 |
| 2.1.4 测定和表征方法 | 第24-25页 |
| 2.2 各反应参数对ZVI还原过程的影响 | 第25-28页 |
| 2.2.1 ZVI还原过程中pH值的探讨 | 第25-26页 |
| 2.2.2 HRT对ZVI还原过程的影响 | 第26-27页 |
| 2.2.3 ZVI还原过程对DNAN模拟废水的处理效果 | 第27-28页 |
| 2.3 各反应参数对ZVI/H_2O_2氧化过程的影响 | 第28-30页 |
| 2.3.1 HRT对ZVI/H_2O_2氧化过程的影响 | 第28-29页 |
| 2.3.2 pH值对ZVI/H_2O_2过程氧化过程的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.3 H202投加量对ZVI/H_2O_2氧化过程的影响 | 第30页 |
| 2.4 “零价铁-零价铁Fenton”耦合技术脱除NACs的反应机制 | 第30-34页 |
| 2.4.1 ZVI/H_2O_2氧化过程中羟基自由基的生成和铁离子的释放 | 第30-31页 |
| 2.4.2 反应体系中各个反应区铁刨花的表征分析 | 第31-33页 |
| 2.4.3 ZVI-ZVI/H_2O_2体系对DNAN废水中NACs选择性脱除的反应机理 | 第33-34页 |
| 2.5 “零价铁-零价铁Fenton”耦合工艺的整体处理效果及技术优势 | 第34-38页 |
| 2.5.1 “零价铁-零价铁Fenton”耦合工艺的整体处理效果分析 | 第34-36页 |
| 2.5.2 “零价铁-零价铁Fenton”耦合工艺的技术优势分析 | 第36-37页 |
| 2.5.3 “零价铁-零价铁Fenton”耦合工艺的运行稳定性分析 | 第37-38页 |
| 2.6 本章小结 | 第38-39页 |
| 3. 以Fenton污泥为铁源的磁性NiFe_2O_4的合成及其应用 | 第39-47页 |
| 3.1 材料与方法 | 第39-40页 |
| 3.1.1 实验方法 | 第39-40页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第40-45页 |
| 3.2.1 NiFe_2O_4的表征及分析 | 第40-43页 |
| 3.2.2 NiFe_2O_4在Fenton氧化技术中的应用 | 第43-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 4 结论与建议 | 第47-49页 |
| 4.1 结论 | 第47-48页 |
| 4.2 建议 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-58页 |
| 附录 | 第58页 |
