| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-14页 |
| 第1章 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 课题背景 | 第15页 |
| 1.2 涂层制备方法 | 第15-19页 |
| 1.2.1 堆焊技术 | 第15-16页 |
| 1.2.2 热喷涂技术 | 第16页 |
| 1.2.3 电刷镀技术 | 第16-17页 |
| 1.2.4 气相沉积技术 | 第17-19页 |
| 1.3 磁控溅射镀膜技术 | 第19-24页 |
| 1.3.1 溅射镀膜发展概况 | 第19-21页 |
| 1.3.2 磁控溅射原理及设备 | 第21-24页 |
| 1.4 CrN涂层研究综述 | 第24-25页 |
| 1.5 TiAlN涂层研究综述 | 第25-27页 |
| 1.6 本论文主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 涂层的制备与表征 | 第29-41页 |
| 2.1 实验流程图 | 第29-30页 |
| 2.2 涂层的制备 | 第30-34页 |
| 2.2.1 制备仪器 | 第30-32页 |
| 2.2.2 实验材料 | 第32-33页 |
| 2.2.3 制备过程 | 第33-34页 |
| 2.3 涂层的表征 | 第34-41页 |
| 2.3.1 涂层的微观结构表征 | 第34-35页 |
| 2.3.2 涂层的形貌表征 | 第35-37页 |
| 2.3.3 涂层的结合与硬度表征 | 第37-38页 |
| 2.3.4 涂层的摩擦磨损表征 | 第38-41页 |
| 第3章 反应磁控溅射制备CrN涂层的研究 | 第41-59页 |
| 3.1 工艺条件对涂层微观结构及力学性能的影响 | 第41页 |
| 3.2 氮气流量比对CrN涂层的影响 | 第41-49页 |
| 3.2.1 实验方法 | 第42-43页 |
| 3.2.2 实验结果与分析 | 第43-48页 |
| 3.2.3 本节小结 | 第48-49页 |
| 3.3 基片偏压对CrN涂层的影响 | 第49-55页 |
| 3.3.1 实验方法 | 第49-50页 |
| 3.3.2 实验结果与分析 | 第50-54页 |
| 3.3.3 本节小结 | 第54-55页 |
| 3.4 CrN涂层的摩擦磨损实验 | 第55-58页 |
| 3.4.1 摩擦磨损实验 | 第55页 |
| 3.4.2 直流和高功率脉冲制备CrN涂层的结构与形貌 | 第55-57页 |
| 3.4.3 直流和高功率脉冲制备CrN涂层的干摩擦实验 | 第57-58页 |
| 3.4.4 本节小结 | 第58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 反应磁控溅射制备TiAlN涂层的研究 | 第59-79页 |
| 4.1 概述 | 第59页 |
| 4.2 氮气流量比对TiAlN涂层的影响 | 第59-67页 |
| 4.2.1 实验方法 | 第60页 |
| 4.2.2 实验结果与分析 | 第60-66页 |
| 4.2.3 本节小结 | 第66-67页 |
| 4.3 工作气压对TiAlN涂层的影响 | 第67-74页 |
| 4.3.1 实验方法 | 第67-68页 |
| 4.3.2 实验结果与分析 | 第68-73页 |
| 4.3.3 本节小结 | 第73-74页 |
| 4.4 TiAlN涂层的摩擦磨损实验 | 第74-77页 |
| 4.4.1 直流和高功率脉冲制备TiAlN涂层的结构与形貌 | 第74-75页 |
| 4.4.2 直流和高功率脉冲制备TiAlN涂层的干摩擦实验 | 第75-76页 |
| 4.4.3 本节小结 | 第76-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 第5章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 5.1 结论 | 第79-80页 |
| 5.2 展望 | 第80页 |
| 5.3 创新点 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 致谢 | 第89-91页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第91-92页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第92页 |
