| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·化学修饰电极的发展历史和概述 | 第10-13页 |
| ·化学修饰电极的发展历史 | 第10-11页 |
| ·化学修饰电极在分析化学中的意义 | 第11-13页 |
| ·循环伏安法和单电位阶跃计时电流法 | 第13-16页 |
| ·循环伏安法原理 | 第13页 |
| ·单电位阶跃计时电流法原理 | 第13-14页 |
| ·电解系统的组成 | 第14-16页 |
| ·溶出方法分类及其应用 | 第16-18页 |
| ·极谱法和伏安分析法 | 第16页 |
| ·溶出伏安法原理 | 第16-17页 |
| ·方法分类 | 第17-18页 |
| ·方波阳极溶出伏安法检测重金属 | 第18-19页 |
| ·铋膜和锑膜电极的研究进展 | 第19-23页 |
| ·铋膜电极的研究进展 | 第19-21页 |
| ·锑膜电极的研究进展 | 第21页 |
| ·本论文研究思路的提出 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-27页 |
| 第2章 复合铋膜修饰铜电极溶出伏安法测定水中痕量镉、铅 | 第27-40页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·实验部分 | 第28-29页 |
| ·试剂与材料 | 第28页 |
| ·仪器 | 第28页 |
| ·铜电极预处理 | 第28页 |
| ·复合铋膜修饰铜电极的制备 | 第28-29页 |
| ·方波溶出伏安法测定 | 第29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·铜铋合金层的形成—Cu-Bi共沉积 | 第29-33页 |
| ·复合铋膜的外层铋膜的物理表征 | 第33-34页 |
| ·复合铋膜修饰铜电极的分析性质 | 第34-37页 |
| ·复合铋膜修饰铜电极的稳定性和保存 | 第37-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第3章 复合锑膜修饰铜电极溶出伏安法测水中镉、铅 | 第40-53页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·试剂与材料 | 第40-41页 |
| ·仪器 | 第41页 |
| ·铜电极预处理 | 第41页 |
| ·复合锑膜修饰铜电极的制备 | 第41页 |
| ·方波溶出伏安法测定 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-50页 |
| ·铜锑合金层的形成—Cu-Sb共沉积 | 第42-45页 |
| ·合金层过渡锑膜的外层锑膜的物理表征 | 第45-47页 |
| ·合金层过渡锑膜电极的分析性质 | 第47-50页 |
| ·复合锑膜电极的稳定性和保存 | 第50页 |
| ·结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第4章 预镀锑铋合金膜修饰玻碳电极方波溶出伏安法测定水中痕量镉、铅 | 第53-64页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·试剂与材料 | 第54页 |
| ·仪器 | 第54页 |
| ·玻碳电极预处理 | 第54页 |
| ·预镀锑铋合金膜 | 第54页 |
| ·方波溶出伏安法测定 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-61页 |
| ·预镀锑铋合金层膜的制备 | 第55-57页 |
| ·不同基底电极作对比 | 第57-58页 |
| ·锑铋合金膜电极的分析性质 | 第58-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 附录:攻读硕士期间完成的论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |