扫描式微弧氧化装置与工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 课题研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 微弧氧化技术的发展现状 | 第11-19页 |
| 1.2.1 常规浸入式微弧氧化的研究现状 | 第11-17页 |
| 1.2.2 扫描式微弧氧化的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 扫描式微弧氧化基本原理 | 第21-30页 |
| 2.1 浸入式微弧氧化放电过程 | 第21-23页 |
| 2.2 扫描式微弧氧化放电过程 | 第23-24页 |
| 2.3 微弧氧化的电击穿机理 | 第24-27页 |
| 2.3.1 微弧氧化过程中的化学与电化学反应 | 第24-25页 |
| 2.3.2 电击穿机理的描述 | 第25-27页 |
| 2.4 扫描过程中的放电分析 | 第27-29页 |
| 2.4.1 扫描放电 | 第27-28页 |
| 2.4.2 两极间电场的分析 | 第28-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 扫描式微弧氧化装置的研制 | 第30-38页 |
| 3.1 装置的总体方案设计 | 第30-31页 |
| 3.2 脉冲电源的设计 | 第31-34页 |
| 3.2.1 电源种类的选择 | 第31页 |
| 3.2.2 脉冲电源方案设计 | 第31-34页 |
| 3.3 扫描阴极喷枪的结构设计 | 第34-37页 |
| 3.3.1 扫描阴极喷枪装置的设计要求 | 第34页 |
| 3.3.2 阴极结构及供液方式的设计 | 第34-35页 |
| 3.3.3 极间距离的确定 | 第35-36页 |
| 3.3.4 手持端材料的选取及安全防护 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 扫描式微弧氧化工艺规律的研究 | 第38-53页 |
| 4.1 膜层性能检测设备及表征方法 | 第38页 |
| 4.2 扫描式微弧氧化工艺流程 | 第38-41页 |
| 4.2.1 工艺流程 | 第38-39页 |
| 4.2.2 膜层制备可行性探索 | 第39-41页 |
| 4.3 单点处理时间对氧化膜层表面形貌的影响 | 第41-43页 |
| 4.3.1 实验方案的设计 | 第41-42页 |
| 4.3.2 实验结果及分析 | 第42-43页 |
| 4.4 电极距离变化对膜层耐腐蚀性的影响 | 第43-45页 |
| 4.4.1 实验方案的设计 | 第43-44页 |
| 4.4.2 实验结果及分析 | 第44-45页 |
| 4.5 NaOH 浓度变化对极间电流大小的影响 | 第45-47页 |
| 4.5.1 实验方案的设计 | 第45-46页 |
| 4.5.2 实验结果及分析 | 第46-47页 |
| 4.6 膜层重叠率对膜层耐腐蚀性的影响 | 第47-49页 |
| 4.6.1 实验方案的设计 | 第47-48页 |
| 4.6.2 实验结果及分析 | 第48-49页 |
| 4.7 破损膜层的修补实验 | 第49-52页 |
| 4.7.1 实验方案设计 | 第49-50页 |
| 4.7.2 实验结果及分析 | 第50-52页 |
| 4.8 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
