| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 发展背景 | 第9-10页 |
| 1.2 基于AFM对纳米加工技术 | 第10-15页 |
| 1.2.1 机械刻蚀 | 第11-12页 |
| 1.2.2 电致刻蚀 | 第12-13页 |
| 1.2.3 光致刻蚀 | 第13-14页 |
| 1.2.4 热致刻蚀 | 第14-15页 |
| 1.2.5 浸笔印刷术 | 第15页 |
| 1.3 基于AFM的纳米操纵技术 | 第15-18页 |
| 1.3.1 碳纳米管器件的装配 | 第16-17页 |
| 1.3.2 自组装单层膜技术在碳纳米管器件制造中的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 近场光学理论与应用 | 第18-22页 |
| 1.4.1 近场光学显微原理 | 第18-20页 |
| 1.4.2 近场光学显微镜的发展 | 第20-22页 |
| 1.5 本课题研究的目的和内容 | 第22-24页 |
| 1.5.1 本课题研究的目的 | 第22-23页 |
| 1.5.2 本课题研究的内容 | 第23-24页 |
| 第二章 原子力显微镜微纳加工和纳米操纵 | 第24-40页 |
| 2.1 基于原子力显微镜的微纳加工技术 | 第24-33页 |
| 2.1.1 实验系统 | 第24-27页 |
| 2.1.2 原子力显微镜刻蚀控制原理 | 第27-29页 |
| 2.1.3 样品准备 | 第29-30页 |
| 2.1.4 采用contact方式下的实验结果 | 第30页 |
| 2.1.5 采用non-contact方式下的实验结果 | 第30-33页 |
| 2.2 原子力显微镜碳纳米管操纵 | 第33-39页 |
| 2.2.1 碳纳米管分散 | 第33-37页 |
| 2.2.2 碳纳米管操纵 | 第37-39页 |
| 2.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 近场光学的数值分析方法 | 第40-56页 |
| 3.1 近场光学分析原理和方法 | 第40-43页 |
| 3.1.1 基于有限差方法的近场光学理论分析 | 第41-42页 |
| 3.1.2 基于边界积分方程的理论和分析方法 | 第42-43页 |
| 3.2 物理模型设计 | 第43-45页 |
| 3.3 数值求解与结果分析 | 第45-55页 |
| 3.3.1 数值求解及算法推导 | 第45-48页 |
| 3.3.2 数值求解过程中的具体的算法调节 | 第48-50页 |
| 3.3.3 光场模拟结果分析 | 第50-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 局域场加强条件下的近场加工 | 第56-65页 |
| 4.1 局域场加强近场加工系统实验系统和方法 | 第56-58页 |
| 4.1.1 实验系统 | 第57页 |
| 4.1.2 实验方法 | 第57-58页 |
| 4.2 实验结果与分析 | 第58-64页 |
| 4.2.1 加工能量对线宽的影响 | 第59-61页 |
| 4.2.2 加工速度对线宽的影响 | 第61-62页 |
| 4.2.3 针尖距离对线宽的影响 | 第62-64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 聚合物薄膜飞秒激光局域场增强纳米光刻研究 | 第65-71页 |
| 5.1 实验系统与方法 | 第65页 |
| 5.2 激光能量对线宽的影响 | 第65-69页 |
| 5.3 实验结果分析 | 第69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-74页 |
| 6.1 工作总结 | 第71-72页 |
| 6.2 存在问题 | 第72页 |
| 6.3 展望和建议 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 硕士期间参与的科研项目 | 第78-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第79页 |