| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 前言 | 第8-20页 |
| 1.1 超导材料发展概述 | 第8-9页 |
| 1.2 高温超导材料的应用 | 第9-12页 |
| 1.2.1 强电应用 | 第9-11页 |
| 1.2.2 弱电应用 | 第11-12页 |
| 1.3 Bi系超导薄膜的结构与性质 | 第12-14页 |
| 1.3.1 Bi-2212 晶体结构特征 | 第13页 |
| 1.3.2 影响Bi-2212 薄膜超导电性的因素 | 第13-14页 |
| 1.4 Bi系超导薄膜的研究现状 | 第14-18页 |
| 1.4.1 Bi-2212 薄膜的制备 | 第15-17页 |
| 1.4.2 Sol-Gel法制备Bi-2212 薄膜的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.5 本文研究目的及意义 | 第18页 |
| 1.6 本文主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 实验方案与实验条件 | 第20-26页 |
| 2.1 研究思路及方案 | 第20页 |
| 2.2 实验原料及薄膜制备设备 | 第20-22页 |
| 2.3 薄膜分析与表征设备 | 第22-26页 |
| 2.3.1 织构分析 | 第22-24页 |
| 2.3.2 表面形貌分析 | 第24页 |
| 2.3.3 超导电学性能分析 | 第24-26页 |
| 3 Sol-Gel法Bi-2212 超导薄膜制备工艺探索及其生长过程分析 | 第26-42页 |
| 3.1 前驱溶液的制备 | 第26-28页 |
| 3.2 凝胶薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.2.1 基底的选择 | 第28-29页 |
| 3.2.2 凝胶薄膜的涂覆 | 第29页 |
| 3.3 Bi-2212 相形成过程分析 | 第29-33页 |
| 3.4 Bi-2212 前驱薄膜表面质量分析 | 第33-35页 |
| 3.5 晶态薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.6 Bi-2212 薄膜取向和性能分析 | 第36-40页 |
| 3.6.1 取向分析 | 第36-38页 |
| 3.6.2 超导电学性能分析 | 第38-40页 |
| 3.7 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 Bi-2212 超导薄膜取向生长影响因素探讨及其制备工艺优化 | 第42-56页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 热处理气氛对薄膜质量的影响 | 第42-47页 |
| 4.2.1 表面形貌分析 | 第43-44页 |
| 4.2.2 显微结构分析 | 第44-45页 |
| 4.2.3 取向分析 | 第45-46页 |
| 4.2.4 超导电学性能分析 | 第46-47页 |
| 4.3 氧分压对薄膜质量的影响 | 第47-51页 |
| 4.3.1 对薄膜生长取向的影响 | 第48-49页 |
| 4.3.2 对薄膜超导电学性能的影响 | 第49-51页 |
| 4.4 烧结温度和保温时间对薄膜质量的影响 | 第51-54页 |
| 4.4.1 取向分析 | 第51-52页 |
| 4.4.2 表面和性能分析 | 第52-54页 |
| 4.5 Bi-2212 薄膜的成相区 | 第54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 5 结论 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 作者在攻读学位期间发表的论文 | 第66页 |
