| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 主要符号对照表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 石墨烯的基本性质 | 第13-21页 |
| 1.1.1 晶格结构和电子能谱 | 第13-14页 |
| 1.1.2 态密度和回旋质量 | 第14-15页 |
| 1.1.3 石墨烯的电子学特性和应用 | 第15-16页 |
| 1.1.4 石墨烯的制备 | 第16-20页 |
| 1.1.5 石墨烯的表征 | 第20-21页 |
| 1.2 太赫兹科学技术 | 第21-29页 |
| 1.2.1 太赫兹波的定义和应用 | 第21-23页 |
| 1.2.2 太赫兹的产生原理 | 第23-25页 |
| 1.2.3 太赫兹的探测原理 | 第25-29页 |
| 1.3 本论文的主要内容及意义 | 第29-31页 |
| 第二章 强磁场低温太赫兹时域光谱系统的搭建 | 第31-53页 |
| 2.1 再生放大飞秒激光器简述 | 第31-41页 |
| 2.1.1 振荡器 | 第31-34页 |
| 2.1.2 展宽器 | 第34-36页 |
| 2.1.3 再生放大器 | 第36-38页 |
| 2.1.4 压缩器 | 第38-41页 |
| 2.2 强磁场低温的太赫兹时域光谱系统的搭建 | 第41-52页 |
| 2.2.1 基于铌酸锂晶体的强太赫兹源 | 第41-44页 |
| 2.2.2 强磁场低温的集成 | 第44-46页 |
| 2.2.3 材料的太赫兹时域光谱的数据分析原理 | 第46-52页 |
| 2.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第三章 CVD生长的石墨烯在强磁场下的太赫兹磁光特性 | 第53-59页 |
| 3.1 引言 | 第53页 |
| 3.2 在铜上CVD生长石墨烯的过程 | 第53-54页 |
| 3.3 单层石墨烯的太赫兹磁光特性 | 第54-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 4.1 全文总结 | 第59页 |
| 4.2 论文的主要创新点 | 第59页 |
| 4.3 论文的不足 | 第59页 |
| 4.4 研究展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第69页 |