| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-26页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 酞菁简介 | 第8-16页 |
| 1.2.1 酞菁的合成 | 第8-13页 |
| 1.2.2 酞菁的光谱性质 | 第13-16页 |
| 1.3 非线性光学 | 第16-25页 |
| 1.3.1 非线性光学简介 | 第16-18页 |
| 1.3.2 非线性材料 | 第18-22页 |
| 1.3.3 非线性材料的固件化 | 第22-23页 |
| 1.3.4 非线性光学的测试方法 | 第23-25页 |
| 1.4 论文的目的和意义 | 第25-26页 |
| 第二章 试剂与仪器 | 第26-28页 |
| 2.1 主要实验试剂 | 第26-27页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第27页 |
| 2.3 主要表征仪器 | 第27-28页 |
| 第三章 电场作用下MPc/PMMA材料的合成及表征 | 第28-39页 |
| 3.1 四枯丁苯氧基氯代酞菁铟的合成 | 第28-30页 |
| 3.1.1 4-枯丁苯氧基邻苯二甲腈的合成 | 第28页 |
| 3.1.2 四枯丁苯氧基氯代酞菁铟的合成 | 第28-29页 |
| 3.1.3 电场下MPc/PMMA材料的制备 | 第29-30页 |
| 3.2 四枯丁苯氧基氯代酞菁铟的表征 | 第30-38页 |
| 3.2.1 4-枯丁苯氧基邻苯二甲腈的表征 | 第30页 |
| 3.2.2 四枯丁苯氧基氯代酞菁铟的表征 | 第30-32页 |
| 3.2.3 不同电场作用下InClPc/PMMA材料的光学性能测试 | 第32-38页 |
| 3.3 小结 | 第38-39页 |
| 第四章 磁场作用下MPc/PMMA材料的合成及表征 | 第39-52页 |
| 4.1 四甲氧基金属酞菁和四枯丁苯氧基酞菁的合成 | 第39-41页 |
| 4.1.1 4-甲氧基邻苯二甲腈的合成 | 第39页 |
| 4.1.2 四甲氧基金属酞菁的合成 | 第39-40页 |
| 4.1.3 四枯丁苯氧基金属酞菁的合成 | 第40-41页 |
| 4.2 磁场作用下MPc/PMMA材料的合成 | 第41页 |
| 4.3 四甲氧基金属酞菁与四枯丁苯氧基金属酞菁的表征 | 第41-49页 |
| 4.3.1 4-甲氧基邻苯二甲腈的表征 | 第41-43页 |
| 4.3.2 四甲氧基金属酞菁的表征 | 第43-46页 |
| 4.3.3 四枯丁苯氧基金属酞菁的表征 | 第46-49页 |
| 4.4 MPc/PMMA聚合物片材的表征 | 第49-51页 |
| 4.4.1 MPc/PMMA聚合物片材的紫外可见光谱 | 第49-50页 |
| 4.4.2 MPc/PMMA聚合物片材的Z-扫描测试 | 第50-51页 |
| 4.5 小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
