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壳聚糖絮凝-Fenton氧化处理有机硅废水研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
引言第9-10页
第1章 文献综述第10-19页
    1.1 有机硅工业废水的水质特点第10-11页
    1.2 壳聚糖及其衍生物废水处理工艺第11-13页
        1.2.1 壳聚糖衍生物的吸附机理第11页
        1.2.2 Fe_3O_4/羧甲基壳聚糖微球的制备第11-12页
        1.2.3 壳聚糖衍生物的应用第12-13页
    1.3 化学氧化法废水处理工艺第13-14页
        1.3.1 Fenton氧化法的作用机理第13-14页
        1.3.2 Fenton氧化法的应用第14页
    1.4 有机硅工业废水的处理工艺第14-18页
        1.4.1 物理法第14-16页
        1.4.2 微电解处理技术第16-17页
        1.4.3 生化处理工艺第17页
        1.4.4 气提处理工艺第17-18页
    1.5 研究目标和内容第18-19页
        1.5.1 研究目标第18页
        1.5.2 研究内容第18-19页
第2章 磁性羧甲基壳聚糖微球的制备第19-33页
    2.1 实验试剂和仪器第19-20页
        2.1.1 实验试剂第19页
        2.1.2 实验仪器第19-20页
    2.2 实验方法第20-23页
        2.2.1 Cu~(2+)、Zn~(2+)标准曲线的测定第20-21页
        2.2.2 CMCS的制备第21-22页
        2.2.3 MCMCS的制备第22页
        2.2.4 离子去除率的测定第22-23页
        2.2.5 MCMCS的表征第23页
    2.3 结果与讨论第23-32页
        2.3.1 CMCS的制备工艺优化第23-26页
        2.3.2 MCMCS的制备工艺优化第26-29页
        2.3.3 MCMCS的表征第29-32页
    2.4 本章小结第32-33页
第3章 磁性羧甲基壳聚糖对离子吸附性能研究第33-45页
    3.1 实验试剂和仪器第33-34页
        3.1.1 实验试剂第33页
        3.1.2 实验仪器第33-34页
    3.2 实验方法第34页
    3.3 结果与讨论第34-44页
        3.3.1 MCMCS对Cu~(2+),Zn~(2+)吸附性能的研究第34-38页
        3.3.2 MCMCS的吸附动力学模型第38-40页
        3.3.3 MCMCS的吸附等温模型第40-42页
        3.3.4 MCMCS的吸附热力学第42-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第4章 絮凝法处理有机硅废水的研究第45-52页
    4.1 实验试剂和仪器第45-46页
        4.1.1 实验试剂第45页
        4.1.2 实验仪器第45-46页
    4.2 实验方法第46-47页
        4.2.1 水样中COD的测定第46页
        4.2.2 絮凝法处理废水第46-47页
    4.3 结果与讨论第47-51页
        4.3.1 絮凝剂投加量对COD去除率的影响第47-48页
        4.3.2 pH对COD去除率的影响第48-49页
        4.3.3 温度对COD去除率的影响第49-50页
        4.3.4 四种絮凝剂对COD去除率的影响第50页
        4.3.5 MCMCS对Cu~(2+)、Zn~(2+)和COD去除率的影响第50-51页
    4.4 本章小结第51-52页
第5章 Fenton氧化法处理有机硅废水的研究第52-61页
    5.1 实验试剂和仪器第52-53页
        5.1.1 实验试剂第52页
        5.1.2 实验仪器第52-53页
    5.2 实验方法第53页
    5.3 结果与讨论第53-59页
        5.3.1 Fenton氧化法正交实验第53-54页
        5.3.2 H_2O_2投加量对COD去除率的影响第54-55页
        5.3.3 pH值对COD去除率的影响第55-56页
        5.3.4 反应温度对COD去除率的影响第56页
        5.3.5 过氧化氢与硫酸亚铁溶液的摩尔比对COD去除率的影响第56-57页
        5.3.6 反应时间对COD去除率的影响第57-58页
        5.3.7 二级Fenton氧化法第58-59页
        5.3.8 絮凝-Fenton氧化联合处理有机硅废水第59页
    5.4 本章小结第59-61页
结论第61-62页
参考文献第62-67页
致谢第67-68页
导师简介第68-69页
作者简介第69-70页
学位论文数据集第70页

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