摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 气敏传感器的概述 | 第10-14页 |
1.2.1 气敏传感器的发展概况 | 第10-11页 |
1.2.2 气敏传感器的分类 | 第11页 |
1.2.3 气敏传感器主要参数 | 第11-12页 |
1.2.4 气敏传感器的应用 | 第12-13页 |
1.2.5 气敏传感器的发展方向 | 第13-14页 |
1.2.6 非晶材料气敏传感器 | 第14页 |
1.3 非晶材料的制备方法简介 | 第14-18页 |
1.3.1 溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
1.3.2 射频溅射法 | 第15页 |
1.3.3 磁控溅射 | 第15-16页 |
1.3.4 喷雾热解 | 第16-17页 |
1.3.5 水热法 | 第17页 |
1.3.6 化学浴沉积 | 第17-18页 |
1.4 CdO材料的研究及应用现状 | 第18-21页 |
1.4.1 CdO的基本性质 | 第18-19页 |
1.4.2 CdO的应用情况 | 第19-21页 |
1.5 本课题的研究思路及创新之处 | 第21-23页 |
第二章 实验原料与实验装置 | 第23-31页 |
2.1 实验原料 | 第23-24页 |
2.2 实验装置 | 第24-25页 |
2.2.1 超声波清洗仪 | 第24页 |
2.2.2 电子天平 | 第24页 |
2.2.3 恒温真空干燥箱 | 第24页 |
2.2.4 真空管式炉 | 第24-25页 |
2.2.5 恒温磁力搅拌器 | 第25页 |
2.2.6 氙灯光源 | 第25页 |
2.2.7 移液枪 | 第25页 |
2.3 表征手段 | 第25-28页 |
2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第26页 |
2.3.3 结晶相分析(XRD) | 第26页 |
2.3.4 X射线光电子光谱测试(XPS) | 第26页 |
2.3.5 原子力显微镜(AFM) | 第26-27页 |
2.3.6 傅里叶红外光谱仪(FTIR) | 第27页 |
2.3.7 拉曼测试 | 第27页 |
2.3.8 紫外-可见分光光度计(UV4100) | 第27页 |
2.3.9 电化学工作站 | 第27页 |
2.3.10 智能气敏分析系统 | 第27-28页 |
2.4 实验方法 | 第28-31页 |
2.4.1 非晶CdO纳米片阵列的制备 | 第29页 |
2.4.2 结晶CdO纳米片阵列的制备 | 第29-30页 |
2.4.3 气敏测试性能测试方法 | 第30页 |
2.4.4 光敏性能测试方法 | 第30-31页 |
第三章 表面富官能团的非晶CdO纳米片阵列的制备及其气敏性能研究 | 第31-50页 |
3.1 引言 | 第31-33页 |
3.2 材料的制备与表征 | 第33-39页 |
3.2.1 非晶CdO纳米片阵列的形貌表征 | 第33-34页 |
3.2.2 非晶CdO纳米片阵列的物相表征 | 第34-38页 |
3.2.3 非晶CdO纳米片阵列的生长过程 | 第38-39页 |
3.3 材料的气敏性能 | 第39-42页 |
3.4 气敏选择性机理的探究 | 第42-47页 |
3.5 材料光敏性能的研究 | 第47-48页 |
3.6 结果讨论 | 第48页 |
3.7 本章小结 | 第48-50页 |
第四章 结晶性CdO纳米片阵列的气敏性能研究 | 第50-59页 |
4.1 本章引言 | 第50-51页 |
4.2 结晶性CdO纳米片阵列的制备方法 | 第51-53页 |
4.2.1 热处理预处理方式的选择 | 第51-52页 |
4.2.2 材料退火温度的选择 | 第52-53页 |
4.3 结晶性CdO纳米片阵列形貌物相表征 | 第53-55页 |
4.3.1 结晶性CdO的形貌 | 第53-54页 |
4.3.2 结晶性CdO的物相 | 第54-55页 |
4.4 结晶性CdO纳米片阵列的气敏性能 | 第55-57页 |
4.4.1 气敏器件的温度-响应曲线 | 第55-56页 |
4.4.2 气敏器件的循环响应曲线 | 第56页 |
4.4.3 气敏器件对于乙醇、异丙醇的响应时间 | 第56-57页 |
4.5 结果讨论 | 第57页 |
4.6 本章小结 | 第57-59页 |
第五章 全文结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-68页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-71页 |