| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 重金属的危害及检测方法 | 第13-15页 |
| 1.1.1 重金属的危害 | 第13-14页 |
| 1.1.2 重金属的检测方法 | 第14-15页 |
| 1.2 分子印迹技术概述 | 第15-24页 |
| 1.2.1 分子印迹技术原理 | 第16-17页 |
| 1.2.2 聚合反应体系的组成 | 第17-19页 |
| 1.2.2.1 模板分子 | 第17页 |
| 1.2.2.2 功能单体 | 第17-18页 |
| 1.2.2.3 交联剂 | 第18页 |
| 1.2.2.4 溶剂 | 第18-19页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物的制备方法 | 第19-21页 |
| 1.2.3.1 本体聚合 | 第19页 |
| 1.2.3.2 乳液聚合 | 第19-20页 |
| 1.2.3.3 分散聚合法 | 第20页 |
| 1.2.3.4 沉淀聚合法 | 第20-21页 |
| 1.2.3.5 悬浮聚合法 | 第21页 |
| 1.2.3.6 表面模板聚合法 | 第21页 |
| 1.2.4 分子（离子）印迹聚合物的表征 | 第21页 |
| 1.2.5 分子印迹聚合物的应用 | 第21-24页 |
| 1.2.5.1 固相萃取 | 第21-22页 |
| 1.2.5.2 传感器敏感材料 | 第22-23页 |
| 1.2.5.3 膜分离领域 | 第23-24页 |
| 1.2.5.4 选择性催化剂 | 第24页 |
| 1.3 金属离子印迹聚合物的研究进展 | 第24-29页 |
| 1.3.1 离子印迹聚合物的制备方法 | 第25-27页 |
| 1.3.1.1 本体聚合 | 第25-26页 |
| 1.3.1.2 沉淀聚合 | 第26页 |
| 1.3.1.3 悬浮聚合 | 第26-27页 |
| 1.3.1.4 表面印迹方法和溶胶-凝胶法 | 第27页 |
| 1.3.1.5 反向微乳聚合 | 第27页 |
| 1.3.2 离子印迹聚合物的应用 | 第27-29页 |
| 1.3.2.1 离子印迹聚合物用于固相萃取 | 第27-28页 |
| 1.3.2.2 金属离子印迹聚合物传感器 | 第28-29页 |
| 1.3.2.3 金属离子印迹分离膜 | 第29页 |
| 1.4 课题意义及创新 | 第29-31页 |
| 1.4.1 课题意义 | 第29-30页 |
| 1.4.2 创新性 | 第30-31页 |
| 第二章 Cr(III)吸附材料的合成及应用于痕量铬(Ⅵ)的检测方法的研究 | 第31-52页 |
| 2.1 引言 | 第31-32页 |
| 2.2 实验部分 | 第32-37页 |
| 2.2.1 仪器 | 第32页 |
| 2.2.2 试剂 | 第32页 |
| 2.2.3 双吡唑的功能化材料的合成 | 第32-34页 |
| 2.2.3.1 4-(二(1-氢吡唑））甲基苯酚（DPP）的合成 | 第32-33页 |
| 2.2.3.2 双吡唑修饰SBA-15材料（DPP@SBA-15）的合成 | 第33-34页 |
| 2.2.4 静态吸附实验 | 第34-35页 |
| 2.2.4.1 pH值的影响 | 第34页 |
| 2.2.4.2 最大吸附容量的确定 | 第34页 |
| 2.2.4.3 脱附剂的确定 | 第34-35页 |
| 2.2.4.4 干扰离子的影响 | 第35页 |
| 2.2.5 实际样品的检测 | 第35页 |
| 2.2.6 检测方法的评价 | 第35-37页 |
| 2.2.6.1 线性和线性范围 | 第35-36页 |
| 2.2.6.2 检出限和定量限 | 第36页 |
| 2.2.6.3 精密度 | 第36-37页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第37-51页 |
| 2.3.1 双吡唑的功能化材料的合成 | 第37页 |
| 2.3.2 Cr(III)吸附材料的表征 | 第37-44页 |
| 2.3.2.1 FT-IR | 第37-38页 |
| 2.3.2.2 CP-MAS NMR（固态硅谱及碳谱） | 第38-40页 |
| 2.3.2.3 SEM/TEM | 第40-41页 |
| 2.3.2.4 TG | 第41-42页 |
| 2.3.2.5 SAXS | 第42-43页 |
| 2.3.2.6 N2吸附-脱附测试 | 第43-44页 |
| 2.3.3 静态吸附条件的确定 | 第44-48页 |
| 2.3.3.1 pH值 | 第44-46页 |
| 2.3.3.2 最大吸附容量 | 第46-47页 |
| 2.3.3.3 脱附剂的类型，浓度和体积 | 第47页 |
| 2.3.3.4 干扰离子的影响 | 第47-48页 |
| 2.3.4 检测方法的验证 | 第48-50页 |
| 2.3.4.1 线性和线性范围 | 第48-49页 |
| 2.3.4.2 检出限和定量限 | 第49页 |
| 2.3.4.3 精密度 | 第49-50页 |
| 2.3.5 样品的测试 | 第50-51页 |
| 2.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第三章 Pb（II）离子印迹聚合物的合成及吸附性能的研究 | 第52-80页 |
| 3.1 引言 | 第52-53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-58页 |
| 3.2.1 试剂 | 第53-54页 |
| 3.2.2 仪器 | 第54页 |
| 3.2.3 铅离子印迹材料的合成 | 第54-55页 |
| 3.2.3.1 双吡唑铅配合物（DPP-Pb）的合成 | 第54页 |
| 3.2.3.2 铅离子印迹聚合物的合成 | 第54-55页 |
| 3.2.4 静态吸附实验 | 第55-57页 |
| 3.2.4.1 pH的影响 | 第55-56页 |
| 3.2.4.2 最大吸附量的确定 | 第56页 |
| 3.2.4.3 材料的选择性实验 | 第56页 |
| 3.2.4.4 脱附剂的选择 | 第56页 |
| 3.2.4.5 干扰离子的影响 | 第56-57页 |
| 3.2.5 实际样品的测定 | 第57页 |
| 3.2.6 检测方法的评价 | 第57-58页 |
| 3.2.6.1 线性和线性范围 | 第57页 |
| 3.2.6.2 检出限和定量限 | 第57页 |
| 3.2.6.3 精密度 | 第57-58页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第58-79页 |
| 3.3.1 双吡唑铅配合物的合成 | 第58页 |
| 3.3.2 Pb(II)离子印迹聚合物的表征 | 第58-70页 |
| 3.3.2.1 FT-IR | 第58-59页 |
| 3.3.2.2 CP-MAS NMR（固态硅谱及碳谱） | 第59-63页 |
| 3.3.2.3 SEM | 第63-64页 |
| 3.3.2.4 TEM | 第64-66页 |
| 3.3.2.5 N2吸附-脱附测试 | 第66-67页 |
| 3.3.2.6 SAXS | 第67-70页 |
| 3.3.3 静态吸附条件的确定 | 第70-77页 |
| 3.3.3.1 pH的影响 | 第70-71页 |
| 3.3.3.2 最大吸附量 | 第71-73页 |
| 3.3.3.3 选择性 | 第73-75页 |
| 3.3.3.4 脱附剂的选择 | 第75-76页 |
| 3.3.3.5 干扰离子的影响 | 第76-77页 |
| 3.3.4 检测方法的验证 | 第77-78页 |
| 3.3.4.1 线性和线性范围 | 第77页 |
| 3.3.4.2 检出限和定量限 | 第77-78页 |
| 3.3.4.3 精密度 | 第78页 |
| 3.3.5 实际样品的测定 | 第78-79页 |
| 3.4 本章小结 | 第79-80页 |
| 第四章 总结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-92页 |
| 攻读学位期间的研究成果目录 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
