曲面基底衍射光学元件的极坐标飞秒激光直写技术研究

摘要	第4-6页
Abstract	第6-7页
第一章 绪论	第10-17页
1.1 衍射光学元件的特点和应用	第10-11页
1.2 飞秒激光直写技术简介	第11-14页
1.2.1 飞秒激光直写技术的原理	第11-13页
1.2.2 飞秒激光直写技术的特点	第13-14页
1.3 常见飞秒激光直写技术简介	第14-16页
1.4 本论文主要内容	第16-17页
第二章 极坐标飞秒激光直写系统	第17-24页
2.1 极坐标飞秒激光直写系统的搭建	第17-20页
2.2 极坐标飞秒激光直写系统的曝光强度控制	第20-22页
2.3 极坐标飞秒激光直写系统的扫描方案	第22-24页
第三章 平面基底上大尺寸三维结构的制备	第24-29页
3.1 实验样品的制备	第24页
3.2 平面基底上大尺寸结构的制备	第24-29页
3.2.1 圆光栅结构的制备	第24-25页
3.2.2 三维结构的制备	第25-29页
第四章 曲面基底衍射光学元件的制备	第29-41页
4.1 样品中心对准方法	第29-31页
4.2 透镜曲率校准	第31-32页
4.3 曲面对焦方案	第32-34页
4.4 大尺寸阶梯结构的制备	第34-36页
4.5 表面为连续曲面结构的制备	第36-37页
4.6 高曲率曲面上三维结构的制备	第37-39页
4.7 大尺寸圆光栅结构的制备与其衍射效果	第39-41页
第五章 温度漂移对结构形貌的影响	第41-47页
5.1 环境温度的漂移	第41-42页
5.2 温度漂移对加工结构的影响与减小温漂的方法	第42-47页
第六章 总结与展望	第47-48页
参考文献	第48-53页
作者简介及科研情况	第53-54页
致谢	第54页