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硅烯拓扑特性及输运性质研究

摘要第2-4页
Abstract第4-5页
1 绪论第8-13页
    1.1 硅烯结构及其特点第8-10页
        1.1.1 硅烯能带结构第8-10页
        1.1.2 硅烯几何结构第10页
    1.2 硅烯制备及应用前景第10-13页
        1.2.1 硅烯制备第10-11页
        1.2.2 硅烯应用前景第11-13页
2 理论模型及研究方法第13-20页
    2.1 紧束缚模型第13-14页
        2.1.1 无磁场作用的紧束缚模型第13页
        2.1.2 垂直磁场作用下的紧束缚模型第13-14页
    2.2 自旋轨道耦合第14-15页
        2.2.1 内禀自旋轨道耦合第14页
        2.2.2 外禀自旋轨道耦合第14-15页
    2.3 垂直电场以及交换场作用第15页
    2.4 Chern number(陈数)计算方法第15-16页
    2.5 Green函数方法第16-18页
    2.6 量子自旋Hall效应第18-19页
    2.7 量子谷Hall效应第19-20页
3 双层硅烯中的拓扑绝缘态第20-27页
    3.1 引言第20-21页
    3.2 理论模型第21-22页
    3.3 强拓扑绝缘态及拓扑相变第22-26页
    3.4 内禀自旋轨道耦合对强拓扑绝缘态的影响第26页
    3.5 本章小结第26-27页
4 双层二维六角晶格中的量子谷Hall态第27-35页
    4.1 引言第27-28页
    4.2 理论模型第28-29页
    4.3 拓扑态和拓扑相变第29-33页
    4.4 本章小结第33-35页
5 非均匀电场作用下铁磁硅烯中的自旋空间分离及自旋过滤第35-47页
    5.1 引言第35-37页
    5.2 理论模型第37页
    5.3 界面态、自旋分离及过滤电流第37-43页
        5.3.1 CT-不变量子自旋Hall效应第37-40页
        5.3.2 边界态部分分离第40-41页
        5.3.3 边界态完全分离第41-43页
    5.4 电场调控下的拓扑相变第43-46页
    5.5 本章小结第46-47页
6 总结与展望第47-49页
参考文献第49-59页
攻读硕士学位期间所做的工作第59-60页
致谢第60-61页

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