| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9-11页 |
| 1.2 MoS_2纳米片的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.2.1 MoS_2纳米片的物理制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 MoS_2纳米片的化学制备方法 | 第12-14页 |
| 1.3 MoO_3纳米片的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.3.1 气相沉积法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 液相沉积法 | 第15页 |
| 1.4 MoS_2纳米片的应用 | 第15-19页 |
| 1.4.1 MoS_2纳米片在场效应晶体管领域的应用 | 第16-17页 |
| 1.4.2 MoS_2纳米片在光电晶体管领域的应用 | 第17-18页 |
| 1.4.3 MoS_2纳米片在气体传感器领域的应用 | 第18页 |
| 1.4.4 MoS_2纳米片在锂、钠电池及太阳能电池领域的应用 | 第18-19页 |
| 1.5 MoO_3纳米片的应用 | 第19-21页 |
| 1.5.1 MoO_3纳米片在润滑剂上的应用 | 第19页 |
| 1.5.2 MoO_3纳米片在电致变色系统上的应用 | 第19-20页 |
| 1.5.3 MoO_3纳米片在电池电极上的应用 | 第20页 |
| 1.5.4 MoO_3纳米片在光学器件上的应用 | 第20页 |
| 1.5.5 MoO_3纳米片在传感器上的应用 | 第20-21页 |
| 1.5.6 MoO_3纳米片在催化剂上的应用 | 第21页 |
| 1.6 本文研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-31页 |
| 2.1 设备及工艺步骤 | 第23-25页 |
| 2.2 基体材料的选择和预处理 | 第25-26页 |
| 2.3 先驱体的选择 | 第26页 |
| 2.4 样品的表征与性能检测 | 第26-30页 |
| 2.4.1 表面形貌表征 | 第26-28页 |
| 2.4.2 样品结构成分表征 | 第28-29页 |
| 2.4.3 样品的光致发光测试 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 MoS_2纳米片的制备和表征 | 第31-41页 |
| 3.1 不同实验装置对MoS_2纳米片形貌的影响 | 第32-35页 |
| 3.1.1 单温区管式炉 | 第32-33页 |
| 3.1.2 双温区管式炉 | 第33-35页 |
| 3.2 Si基体与S源的距离对MoS_2纳米片的影响 | 第35-39页 |
| 3.2.1 Si基体与S源的距离对MoS_2纳米片形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.2 Si基体与S源的距离对MoS_2纳米片结构和成分的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.3 MoS_2纳米片的Raman及PL测试和分析 | 第39页 |
| 3.3 MoS_2纳米片可能的生长机理 | 第39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 MoO_3纳米片的制备和表征 | 第41-49页 |
| 4.1 MoO_3纳米片的制备 | 第41页 |
| 4.2 MoO_3微片的制备 | 第41页 |
| 4.3 退火时间对MoO_3纳米片形貌的影响 | 第41-43页 |
| 4.4 MoO_3纳米片的结构成分表征及分析 | 第43-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 本文的主要研究工作及结论 | 第49-50页 |
| 5.2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 硕士期间发表论文 | 第63页 |
