| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 超级电容器的概述 | 第11-14页 |
| 1.2.1 超级电容器的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 超级电容器的基本结构 | 第12-14页 |
| 1.3 微型超级电容器的电极材料 | 第14-19页 |
| 1.3.1 碳材料 | 第14-17页 |
| 1.3.2 金属氧化物（含氢氧化物） | 第17页 |
| 1.3.3 导电聚合物材料 | 第17-18页 |
| 1.3.4 金属硫化物 | 第18-19页 |
| 1.4 薄膜电极的制备工艺 | 第19-21页 |
| 1.4.1 溅射法 | 第19页 |
| 1.4.2 化学气相沉积（CVD） | 第19页 |
| 1.4.3 沉积法（LBL） | 第19-20页 |
| 1.4.4 电化学和电泳沉积 | 第20页 |
| 1.4.5 印刷电子技术 | 第20-21页 |
| 1.4.6 喷雾沉积 | 第21页 |
| 1.5 本论文的研究目标及内容 | 第21-23页 |
| 第2章 电极材料的制备与表征技术 | 第23-30页 |
| 2.1 基于石墨烯电极材料的制备 | 第23-25页 |
| 2.1.1 GO的制备方法 | 第23页 |
| 2.1.2 rGO的制备方法 | 第23页 |
| 2.1.3 MoS2/rGO的制备方法 | 第23-24页 |
| 2.1.4 基于石墨烯电极材料薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| 2.2 基于石墨烯电极材料的表征技术 | 第25-27页 |
| 2.2.1 光学显微镜 | 第25-26页 |
| 2.2.2 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第26页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜（TEM） | 第26页 |
| 2.2.4 原子力显微镜（AFM） | 第26页 |
| 2.2.5 X射线衍射分析（XRD） | 第26-27页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第27页 |
| 2.2.7 膜厚表征 | 第27页 |
| 2.2.8 导电性能表征 | 第27页 |
| 2.3 微型超级电容器电化学性能表征技术 | 第27-29页 |
| 2.3.1 循环伏安技术（CV） | 第27-28页 |
| 2.3.2 恒电流充放电测试（GCD） | 第28页 |
| 2.3.3 交流阻抗分析（EIS） | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 印制式石墨烯微型超级电容器的制备与表征 | 第30-43页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 石墨烯材料的制备与表征 | 第30-37页 |
| 3.2.1 MOGO、rGO及S-rGO的制备 | 第30-33页 |
| 3.2.2 MOGO、rGO及S-rGO的表征分析 | 第33-37页 |
| 3.3 rGO和S-rGO微型超级电容器的制备与电化学性能研究 | 第37-42页 |
| 3.3.1 rGO和S-rGO微型超级电容器的制备 | 第37-39页 |
| 3.3.2 rGO和S-rGO微型超级电容器的电化学性能表征分析 | 第39-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 印制式二硫化钼/石墨烯微型超级电容器的制备与表征 | 第43-54页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 MoS2/rGO的制备与表征 | 第44-48页 |
| 4.2.1 MoS2/rGO复合材料的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.2 MoS2/rGO复合材料的形貌表征 | 第45-48页 |
| 4.3 MoS2/rGO微型超级电容器的制备与电化学性能研究 | 第48-53页 |
| 4.3.1 MoS2/rGO微型超级电容器的制备 | 第48-49页 |
| 4.3.2 MoS2/rGO微型超级电容器的电化学性能表征分析 | 第49-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 总结和展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-65页 |
| 硕士期间主要研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
