| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 缩略语表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 釉质脱矿的研究进展 | 第12-14页 |
| 1.2.1 釉质脱矿的表现 | 第12页 |
| 1.2.2 牙釉质脱矿的病因分析 | 第12-14页 |
| 1.3 预防釉质脱矿的方法及研究进展 | 第14-15页 |
| 1.3.1 口腔卫生措施 | 第14-15页 |
| 1.3.2 口腔氟化物的应用 | 第15页 |
| 1.4 纳米TiO_2材料研究进展 | 第15-17页 |
| 1.4.1 TiO_2光催化作用在口腔中的抗菌原理 | 第15-16页 |
| 1.4.2 提高TiO_2可见光活性的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.5 正畸摩擦力研究进展 | 第17-18页 |
| 1.5.1 正畸摩擦力的产生 | 第17页 |
| 1.5.2 静摩擦力与动摩擦力 | 第17-18页 |
| 1.6 正畸摩擦力 | 第18-19页 |
| 1.6.1 力学基础 | 第18页 |
| 1.6.2 存在形式 | 第18-19页 |
| 1.6.3 测试系统的研究方法 | 第19页 |
| 1.7 正畸摩擦力的应用 | 第19-23页 |
| 1.7.1 影响因素 | 第19-22页 |
| 1.7.2 摩擦力与滑动阻力 | 第22页 |
| 1.7.3 治疗中矫治力的丧失 | 第22-23页 |
| 1.7.4 正畸摩擦力的控制 | 第23页 |
| 1.8 本文研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-37页 |
| 2.1 实验材料 | 第29-30页 |
| 2.2 样品制备 | 第30-31页 |
| 2.2.1 样品的清洗 | 第30-31页 |
| 2.2.2 TiO_(2-x)N_x薄膜的制备 | 第31页 |
| 2.2.3 退火 | 第31页 |
| 2.3 表征 | 第31-33页 |
| 2.3.1 薄膜晶体结构表征 | 第31-32页 |
| 2.3.2 薄膜表面形貌观察 | 第32页 |
| 2.3.3 薄膜的厚度测量 | 第32页 |
| 2.3.4 薄膜表面粗糙度测量 | 第32-33页 |
| 2.4 摩擦实验 | 第33-36页 |
| 2.4.1 实验分组 | 第33-34页 |
| 2.4.2 浸泡介质 | 第34页 |
| 2.4.3 动静摩擦系数测试 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 TiO_(2-x)N_x薄膜托槽的制备 | 第37-43页 |
| 3.1 引言 | 第37-38页 |
| 3.2 磁控溅射法的实验原理 | 第38页 |
| 3.3 磁控溅射制备薄膜的优势 | 第38-39页 |
| 3.4 薄膜的表征及性能测试 | 第39页 |
| 3.4.1 X射线衍射仪进行薄膜晶型检测 | 第39页 |
| 3.4.2 (SEM)扫描电镜进行表面形貌分析 | 第39页 |
| 3.4.3 用椭偏仪检测薄膜厚度 | 第39页 |
| 3.4.4 通过表面粗糙度测量仪检测薄膜粗糙度 | 第39页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第39-41页 |
| 3.5.1 XRD | 第39-40页 |
| 3.5.2 扫描电镜(SEM)测试 | 第40页 |
| 3.5.3 薄膜厚度 | 第40-41页 |
| 3.5.4 薄膜表面粗糙度 | 第41页 |
| 3.6 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第四章 纳米TiO_(2-x)N_x薄膜托槽摩擦性能研究 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验 | 第43-44页 |
| 4.2.1 实验分组 | 第43-44页 |
| 4.2.2 溶液配制 | 第44页 |
| 4.2.3 摩擦系数测定 | 第44页 |
| 4.2.4 统计方法 | 第44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-49页 |
| 4.4 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第五章 结论与展望 | 第52-53页 |
| 在学期间的研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |