| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第15-39页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 二维材料在催化分解水领域的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.2.1 二维材料概述 | 第15-16页 |
| 1.2.2 二维材料在催化分解水方面的应用 | 第16-18页 |
| 1.3 水分解技术 | 第18-28页 |
| 1.3.1 光催化分解水技术 | 第18-23页 |
| 1.3.2 电催化分解水技术 | 第23-28页 |
| 1.4 过渡金属化合物在电催化分解水领域的应用 | 第28-32页 |
| 1.4.1 过渡金属硫化物 | 第29-30页 |
| 1.4.2 过渡金属硒化物 | 第30-31页 |
| 1.4.3 过渡金属磷化物 | 第31-32页 |
| 1.5 电催化活性的改善机制 | 第32-37页 |
| 1.5.1 表面微纳结构调控 | 第32-33页 |
| 1.5.2 高活性晶面暴露 | 第33-34页 |
| 1.5.3 掺杂/合金化 | 第34-36页 |
| 1.5.4 复合 | 第36-37页 |
| 1.6 本文选题意义及主要研究内容 | 第37-39页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第39-45页 |
| 2.1 材料体系设计 | 第39-40页 |
| 2.2 试验试剂 | 第40-41页 |
| 2.3 材料合成方法 | 第41-42页 |
| 2.3.1 泡沫镍的预处理 | 第41页 |
| 2.3.2 金属硫化物/磷化物的溶剂热制备 | 第41-42页 |
| 2.3.3 金属硫化物/磷化物的电沉积制备 | 第42页 |
| 2.4 材料分析表征方法 | 第42-43页 |
| 2.4.1 物相表征 | 第42页 |
| 2.4.2 形貌表征 | 第42-43页 |
| 2.4.3 组成表征 | 第43页 |
| 2.5 性能测试方法 | 第43-45页 |
| 2.5.1 电催化性能测试 | 第43页 |
| 2.5.2 光催化性能测试 | 第43-44页 |
| 2.5.3 光电响应行为测试 | 第44-45页 |
| 第3章 硫化镍二维材料的掺杂/复合与电催化分解水性能研究 | 第45-83页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 Sn掺杂Ni_3S_2纳米片的制备与电催化产氢性能 | 第45-59页 |
| 3.2.1 Sn掺杂Ni_3S_2纳米片的制备 | 第45-46页 |
| 3.2.2 Sn掺杂Ni_3S_2纳米片的表征 | 第46-50页 |
| 3.2.3 Sn掺杂Ni_3S_2纳米片的电催化产氢性能 | 第50-59页 |
| 3.3 石墨烯包覆Ni_3S_2的合成与电催化全分解水性能 | 第59-67页 |
| 3.3.1 石墨烯包覆Ni_3S_2复合电极的制备 | 第59页 |
| 3.3.2 石墨烯包覆Ni_3S_2复合电极的表征 | 第59-62页 |
| 3.3.3 石墨烯包覆Ni_3S_2的电催化全分解水性能 | 第62-67页 |
| 3.4 氮掺杂石墨烯复合NiSe_2的制备与电催化产氧性能 | 第67-81页 |
| 3.4.1 氮掺杂石墨烯复合NiSe_2材料的制备 | 第67-68页 |
| 3.4.2 氮掺杂石墨烯复合NiSe_2材料的表征 | 第68-75页 |
| 3.4.3 氮掺杂石墨烯复合NiSe_2电极的电催化产氧性能 | 第75-81页 |
| 3.5 本章小结 | 第81-83页 |
| 第4章 磷化镍二维材料的掺杂/复合与电催化分解水性能研究 | 第83-114页 |
| 4.1 引言 | 第83-84页 |
| 4.2 碳包覆Ni_8P_3纳米片的制备与电催化分解水性能 | 第84-97页 |
| 4.2.1 碳包覆Ni_8P_3纳米片的制备 | 第84页 |
| 4.2.2 碳包覆Ni_8P_3纳米片的表征 | 第84-88页 |
| 4.2.3 碳包覆Ni_8P_3纳米片的电催化分解水性能 | 第88-97页 |
| 4.3 Co掺杂磷化镍的制备与电催化分解水性能 | 第97-112页 |
| 4.3.1 Co掺杂磷化镍的制备 | 第97页 |
| 4.3.2 Co掺杂磷化镍的表征 | 第97-104页 |
| 4.3.3 Co掺杂磷化镍的电催化分解水性能 | 第104-112页 |
| 4.4 本章小结 | 第112-114页 |
| 第5章 单分散二硫化锡纳米片的可控合成与光催化分解水性能研究 | 第114-136页 |
| 5.1 引言 | 第114页 |
| 5.2 单分散SnS_2纳米片的可控合成和表征 | 第114-120页 |
| 5.2.1 单分散SnS_2纳米片的制备 | 第114-115页 |
| 5.2.2 单分散SnS_2纳米片的表征 | 第115-120页 |
| 5.3 单分散SnS_2纳米片的形成机制分析 | 第120-131页 |
| 5.3.1 PVP添加量的影响 | 第120-121页 |
| 5.3.2 反应温度的影响 | 第121-123页 |
| 5.3.3 反应时间的影响 | 第123-124页 |
| 5.3.4 单分散SnS_2纳米片的形成机制 | 第124-125页 |
| 5.3.5 Se掺杂SnS_2纳米片的合成与光学性质 | 第125-131页 |
| 5.4 单分散SnS_2纳米片的光催化产氢性能 | 第131-134页 |
| 5.5 本章小结 | 第134-136页 |
| 结论 | 第136-138页 |
| 参考文献 | 第138-155页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第155-158页 |
| 致谢 | 第158-159页 |
| 个人简历 | 第159页 |
